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: 氪氣、氬氣等高純氣體在真空涂層技術(shù)上的應(yīng)用

真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng)，國(guó)際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。到了上世紀(jì)七十年代末，開(kāi)始出現(xiàn) PVD(物理氣相沉積) 技術(shù)，為真空涂層開(kāi)創(chuàng)了新天地，之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)工藝氣體如氪氣、氬氣、氫氣等氣體的需求不斷增大。現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測(cè)量技術(shù)、非平
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: 氣體專(zhuān)家?guī)阏J(rèn)識(shí)不一樣的標(biāo)準(zhǔn)混合氣體！

常常有客戶認(rèn)為高純氣體或是符合使用標(biāo)準(zhǔn)的氣體就是標(biāo)準(zhǔn)氣體了，其實(shí)不然，氣體行業(yè)中把這樣的氣體才稱(chēng)之為標(biāo)準(zhǔn)氣體！標(biāo)準(zhǔn)氣體其實(shí)是一種高度均勻、穩(wěn)定性良好和量值準(zhǔn)確的氣體。標(biāo)準(zhǔn)氣體當(dāng)然可以是單一的純氣或高純氣體，也可以是由多組分氣體配制而成的混合氣體。標(biāo)準(zhǔn)氣體之所以被稱(chēng)為標(biāo)準(zhǔn)氣體，主要是因?yàn)樗糜谛?zhǔn)儀器、儀表、評(píng)價(jià)測(cè)量方法、計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)傳遞和量值仲裁等。它們具有復(fù)現(xiàn)、保存和傳遞量值的基本作用。在物理、化學(xué)、生產(chǎn)與工程測(cè)量領(lǐng)域中用于校準(zhǔn)測(cè)量?jī)x器和測(cè)量過(guò)程、評(píng)價(jià)測(cè)量方法的準(zhǔn)確度和檢測(cè)實(shí)驗(yàn)
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: 氣體專(zhuān)家告訴你：什么是標(biāo)準(zhǔn)氣體？

在行業(yè)內(nèi)，標(biāo)準(zhǔn)氣體一般都指的是標(biāo)準(zhǔn)混合氣體。標(biāo)準(zhǔn)氣體屬于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)是高度均勻的、良好穩(wěn)定和量值準(zhǔn)確的測(cè)定標(biāo)準(zhǔn), 它們具有復(fù)現(xiàn)、保存和傳遞量值的基本作用, 在物理、化學(xué)、生物與工程測(cè)量領(lǐng)域中用于校準(zhǔn)測(cè)量?jī)x器和測(cè)量過(guò)程, 評(píng)價(jià)測(cè)量方法的準(zhǔn)確度和檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室的檢測(cè)能力, 確定材料或產(chǎn)品的特性量值, 進(jìn)行量值仲裁等。標(biāo)準(zhǔn)氣體視氣體組分?jǐn)?shù)區(qū)分為二元、三元和多元標(biāo)準(zhǔn)氣體; 配氣準(zhǔn)度要求以配氣允差和分析允差來(lái)表征;配制方法可采用重量法, 然后用色譜分析校核, 也可按標(biāo)準(zhǔn)傳遞程序進(jìn)行傳遞。
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: 智能型氦氣液化器安裝調(diào)試完成！

當(dāng)今社會(huì)，液氦資源逐漸緊張，許多實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)在考慮使用氦氣液化器進(jìn)行循環(huán)回收使用液氦，如此一來(lái)，不僅省去了來(lái)回采購(gòu)液氦的麻煩，還節(jié)省了很多液氦的消耗費(fèi)用。特別是在一些偏遠(yuǎn)的地方，購(gòu)置液氦本身一直存在許多問(wèn)題。近期，Quantum Design中國(guó)工程師相繼完成了昆明理工大學(xué)和中國(guó)科學(xué)院物理研究所智能型氦液化器ATL的安裝調(diào)試。在中國(guó)科學(xué)院物理研究所的液氦回收測(cè)試中，單臺(tái)冷頭峰值液氦回收率達(dá)到近40L/天，得到了客戶的高度認(rèn)可，這充分體現(xiàn)了智能型氦液化器ATL的高效回收。 Quantu
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: 雙氧水法制環(huán)氧氯丙烷新工藝

10月26日，中國(guó)科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所、莘縣華祥鹽化有限公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)的雙氧水法制環(huán)氧氯丙烷新工藝(DECH)，在北京通過(guò)了由中國(guó)石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會(huì)組織的成果鑒定。目前，生產(chǎn)環(huán)氧氯丙烷的工業(yè)方法主要有三種，分別為：氯醇法、醋酸烯丙酯-烯丙醇法、甘油法。在我國(guó)由于烯丙醇法工藝流程長(zhǎng)，投資費(fèi)用和成本相對(duì)較高已經(jīng)停用。而氯醇法與甘油法都存在高鹽廢水的嚴(yán)重環(huán)保問(wèn)題，迫切需要環(huán)氧氯丙烷綠色制造方法。中科院大連化學(xué)物理研究所在國(guó)家自然科學(xué)基金的支持下自90年代開(kāi)始一直從事烯烴綠色環(huán)氧
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: 穩(wěn)定同位素在藥物研發(fā)過(guò)程中的應(yīng)用

同位素為相同化學(xué)元素的原子，由于在原子核中存在不同的中子數(shù)而具有不同的質(zhì)量，有輕、重同位素之分；根據(jù)物理特性，又可將同位素分為放射性和穩(wěn)定性?xún)煞N形式。放射性同位素(如：3H、14C)經(jīng)歷著自身的衰變過(guò)程，并放射出輻射能，是不穩(wěn)定的，具有物理半衰期；穩(wěn)定性同位素?zé)o放射性，物理性質(zhì)穩(wěn)定，以一定比例(豐度)存在于自然界，對(duì)人體無(wú)害，可采取化學(xué)合成的方法將其標(biāo)記到藥物分子中去，并通過(guò)氣質(zhì)、液質(zhì)等儀器對(duì)其進(jìn)行跟蹤檢測(cè)。一、“同位素標(biāo)記”在藥物研發(fā)過(guò)程中的2個(gè)主要方向藥代動(dòng)力學(xué)研
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: 釕單原子催化劑，實(shí)現(xiàn)高效氮?dú)怆娺€原合成氨

目前，在工業(yè)上通過(guò)哈伯法合成氨需要高溫高壓（150-350 atm, 350-550℃）。這種苛刻的條件每年需要消耗全世界1-2%的能源供應(yīng)。此外，傳統(tǒng)的哈伯法合成氨需要?dú)錃庾鳛樵现?，而傳統(tǒng)制氫的過(guò)程會(huì)排放大量CO2。因此，探索在溫和條件下合成氨的催化反應(yīng)顯得尤為重要。近日，中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)曾杰教授研究團(tuán)隊(duì)和中科院上海應(yīng)用物理研究所司銳教授合作，通過(guò)構(gòu)筑原子級(jí)分散的釕催化劑實(shí)現(xiàn)高效氮?dú)怆娺€原合成氨。這種釕單原子催化劑在電催化還原氮?dú)夥磻?yīng)中表現(xiàn)出的產(chǎn)氨速率是現(xiàn)有報(bào)道的最高值。該成果發(fā)表在《先進(jìn)
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: 距離地球4000光年行星狀星云中存在大量氦-3

紐瑞德小編了解到，英國(guó)曼徹斯特大學(xué)天文學(xué)家最新探測(cè)到距離地球4000光年之遙的行星狀星云中存在著一種稀有氣體。這項(xiàng)發(fā)現(xiàn)是通過(guò)美國(guó)宇航局馬德里深太空通訊綜合體觀測(cè)到的，將有助于科學(xué)家理解這種重要成分的歷史。　　這種稀有氣體是氦-3，它可作為核電站的一種燃料，在低溫物理學(xué)和醫(yī)學(xué)成像技術(shù)領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。該氣體很少存在于地球，但是科學(xué)家認(rèn)為它們大量存在于月球，部分國(guó)家和政府計(jì)劃在月球上采集氦-3，或許未來(lái)將引發(fā)一場(chǎng)太空競(jìng)賽。　　氦-3氣體形成于低質(zhì)量恒星(質(zhì)量低于太陽(yáng)質(zhì)量?jī)杀?，這樣的恒星在生命末期噴射大
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: 怎樣脫除氣體中的硫化物呢？

脫除質(zhì)料氣中的硫化物的辦法有許多，通常分為濕法脫硫和干法脫硫兩大類(lèi)。濕法脫硫是選用溶液吸收的辦法來(lái)脫除，依其吸收和再生性質(zhì)，又可分為物理吸收法、化學(xué)吸收法和物理化學(xué)吸收法。（1）物理吸收法物理吸收法是運(yùn)用硫化氫在溶液中的溶解度性質(zhì)。通常是加壓條件下吸收，減壓、加熱或氣提解吸將硫化氫釋放出來(lái)，并使溶劑得到再生。在吸收進(jìn)程中不發(fā)作化學(xué)反響。常用的物理吸收法有水洗法和甲醇法等。（2）化學(xué)吸收法運(yùn)用在吸收進(jìn)程中發(fā)作某種化學(xué)反
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: 蝕刻技術(shù)中特種氣體的作用

硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進(jìn)后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬?gòu)?fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等蝕刻是采用化學(xué)和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程?？涛g的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形?？涛g分為濕法蝕
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