真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長,國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。到了上世紀(jì)七十年代末,開始出現(xiàn) PVD(物理氣相沉積) 技術(shù),為真空涂層開創(chuàng)了新天地,之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù),各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)工藝氣體如氪氣、氬氣、氫氣等氣體的需求不斷增大。
現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺射技術(shù)、輔助陽極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或?yàn)R射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。
工藝氣體輸入系統(tǒng)是真空涂層技術(shù)中非常重要的一環(huán),主要會(huì)用的工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮?dú)?N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應(yīng),經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計(jì)、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是,管路簡捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各涂層機(jī)之間互不影響。也有多臺(tái)涂層機(jī)共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機(jī)會(huì)看到。它的好處是,減少氣瓶占用量,統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點(diǎn)是,由于接頭增多,使漏氣機(jī)會(huì)增加。而且,各涂層機(jī)之間會(huì)互相干擾,一臺(tái)涂層機(jī)的管路漏氣,有可能會(huì)影響到其他涂層機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量。此外,更換氣瓶時(shí),必須保證所有主機(jī)都處于非用氣狀態(tài)。
真空涂層技術(shù)中使用的工藝氣體對(duì)氣體的純度也有較高的要求,因此選擇有質(zhì)量保證的氣體供應(yīng)商就十分重要!紐瑞德長期供應(yīng)99.999%的
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