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為什么經(jīng)常發(fā)過(guò)來(lái)的標(biāo)準(zhǔn)氣體濃度和訂氣時(shí)所需求的不一致呢?
由于標(biāo)準(zhǔn)氣體是專(zhuān)門(mén)針對(duì)特定需求定制的產(chǎn)品,其生產(chǎn)方法是按照國(guó)際通用重量法逐瓶稱(chēng)重,然后通過(guò)相應(yīng)的分析儀器逐瓶獲得數(shù)值。分析報(bào)告中指定的值基于分析儀上的讀數(shù)。 由于手動(dòng)控制和灌裝系統(tǒng)的不穩(wěn)定性,通常很難簡(jiǎn)單地將測(cè)量值降至所需值。一般來(lái)說(shuō),濃度越低,控制難度越大。 因此,混合精度、分析精度和不確定度的概念將出現(xiàn)。 液態(tài)空氣采用先進(jìn)的灌裝設(shè)備和技術(shù)以及灌裝工人的經(jīng)驗(yàn),將故障范圍控制在我們提供的技術(shù)參數(shù)范圍內(nèi)。 對(duì)于特殊要求,可根據(jù)客戶(hù)要求的故障范圍準(zhǔn)備液態(tài)空氣。然而,在這種情況下,在一瓶標(biāo)準(zhǔn)氣體的更多 +
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高純氣體管道氦氣檢漏方法
1、高純大宗氣體管道氦檢漏方法宜采用內(nèi)向檢漏法、閥座檢漏法、外向檢漏法。 2、內(nèi)向檢漏法(噴氦法)應(yīng)采用在高純氣體管道內(nèi)部抽真空,外部噴氦氣的方法進(jìn)行檢漏。 3、閥座檢漏法應(yīng)采用閥門(mén)上游充氦氣,下游抽真空的方法檢漏。 4、外向檢漏法(吸槍法)應(yīng)采用在高純氣體管道內(nèi)部充氦氣或氦氮混合氣,外部用吸槍檢查可能泄漏點(diǎn)的方法檢漏。 5、氦檢漏儀表應(yīng)采用質(zhì)譜型氦檢測(cè)儀,其檢測(cè)精度不得低于1 6、高純氣體氦檢漏的泄漏率應(yīng)符合下列要求: 6.1、內(nèi)向檢漏法測(cè)定的泄漏率不得大于1*10-9mbar更多 +
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氦氣的有哪些用途
用于超低溫研究、氣相分析、焊接、探漏、化學(xué)氣相淀積、晶體生長(zhǎng)、等離子干刻、特種混合氣等,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、平衡氣、醫(yī)療氣、氣球電子管潛水服等的充氣。 氦氣廣泛應(yīng)用于軍工、科研、石化、制冷、醫(yī)療、半導(dǎo)體、管道檢漏、超導(dǎo)實(shí)驗(yàn)、金屬制造、深海潛水、高精度焊接、光電子產(chǎn)品生產(chǎn)等。 (1)低溫冷卻:利用液氦的-268.9℃的低沸點(diǎn),液氦可以用于超低溫冷卻。而超低溫冷卻技術(shù)在超導(dǎo)技術(shù)等領(lǐng)域有較廣泛的應(yīng)用,超導(dǎo)材料需要在低溫(100K左右)中才能表現(xiàn)出超導(dǎo)特性,大多數(shù)情況下只有液氦能比較簡(jiǎn)便地實(shí)現(xiàn)這樣的極低溫。超導(dǎo)技術(shù)在交更多 +
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高純氣體在半導(dǎo)體、光纖等行業(yè)的應(yīng)用?
高純氣體工藝系統(tǒng)目前主要用于泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)(集成電路、平板顯示、光伏、LED等等)和光纖、生物制藥及食品飲料行業(yè)。 高純氣體工藝系統(tǒng)的好壞會(huì)直接影響先進(jìn)制造行業(yè)中工藝設(shè)備的運(yùn)行及投產(chǎn)后的成品率。一個(gè)優(yōu)秀的高純氣體工藝系統(tǒng)設(shè) 企業(yè)如沃飛,能通過(guò)控制高純氣體的純度,實(shí)現(xiàn)其制程精度要求,保障并提升產(chǎn)品良率。 1、在泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中高純氣體工藝系統(tǒng)的運(yùn)用 高純度的特種氣體參與泛半導(dǎo)體行業(yè)集成電路制造的核心工藝流程:摻雜、光刻、刻蝕和CVD成膜工藝環(huán)節(jié)。更多 +
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【標(biāo)準(zhǔn)氣體定值】用質(zhì)量測(cè)定法確定標(biāo)準(zhǔn)氣體濃度值
標(biāo)準(zhǔn)氣體定值中質(zhì)量比混合法是利用超大型高精密天平分別測(cè)量高純組分氣體和稀釋氣體,并定量混合而配制標(biāo)準(zhǔn)氣體的方法。它的特點(diǎn)是其質(zhì)量測(cè)定值可以追溯到國(guó)際千克原器,而且在配氣時(shí)不需要對(duì)氣體的壓力、溫度、粘度等參數(shù)進(jìn)行校正.因而測(cè)定值準(zhǔn)確可靠。但這種方法只靠質(zhì)量測(cè)定一種方法來(lái)確定濃度值,所以它是以天平的高精密度和鋼瓶?jī)?nèi)氣體的高度穩(wěn)定性為前提的。另外,鋼瓶質(zhì)量同組分氣體或稀釋氣體質(zhì)量相比大得多。而且砝碼與鋼瓶在大小、材料和密度上差異很大,因而需要很高的質(zhì)量測(cè)定技術(shù)。一般采用質(zhì)量測(cè)量范圍寬、測(cè)量精度又更多 +
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氦氣的應(yīng)用領(lǐng)域
氦氣廣泛應(yīng)用于軍工、科研、石化、制冷、醫(yī)療、半導(dǎo)體、管道檢漏、超導(dǎo)實(shí)驗(yàn)、金屬制造、深海潛水、高精度焊接、光電子產(chǎn)品生產(chǎn)等。 1、低溫冷源:利用液氦的-268.9℃的低沸點(diǎn),液氦可以用于超低溫冷卻。而超低溫冷卻技術(shù)在超導(dǎo)技術(shù)等領(lǐng)域有較廣泛的應(yīng)用,超導(dǎo)材料需要在低溫(100K左右)中才能表現(xiàn)出超導(dǎo)特性,大多數(shù)情況下只有液氦能比較簡(jiǎn)便地實(shí)現(xiàn)這樣的極低溫。超導(dǎo)技術(shù)在交通行業(yè)的磁懸浮列車(chē),醫(yī)療領(lǐng)域的核磁共振成像設(shè)備都有較大的應(yīng)用。 2、氣球充氣:由于氦氣密度遠(yuǎn)小于空氣(空氣的密度為1.29kg/m3,氦氣的密更多 +
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混合氣體和標(biāo)準(zhǔn)氣體的不同
電子混合氣體和計(jì)量學(xué)上的標(biāo)準(zhǔn)氣體有許多相似的特點(diǎn),但又有許多不同,電子混合氣體除了要保證其配制濃度的高精度外,更需要?dú)怏w具有優(yōu)良的品質(zhì),換言之,電子混合氣體必須要確?;旌虾玫臍怏w中含有的有害雜質(zhì)不能高于某值。在8in以上的IC生產(chǎn)線(xiàn),也應(yīng)對(duì)混合氣體中含有的顆粒物進(jìn)行控制和定值。 1、電子混合氣體的氣瓶處理 同其他氣體不同,對(duì)盛裝電子混合氣體的氣瓶的要求十分嚴(yán)格,否則,即便是混合氣體配制的準(zhǔn)確度再高,穩(wěn)定性再好也無(wú)更多 +
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國(guó)內(nèi)電子氣體發(fā)展趨勢(shì)了解下
電子特氣是工業(yè)氣體中附加值較高的品種,與傳統(tǒng)工業(yè)氣體的區(qū)別在于純度更高(如高純氣體)或者具有特殊用途(如參與化學(xué)反應(yīng)),是極大規(guī)模集成電路、平面顯示器件、化合物半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池、光纖等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的基礎(chǔ)和支撐性材料之一,相關(guān)下游領(lǐng)域的快速發(fā)展將帶動(dòng)未來(lái)特種氣體的增量需求。 行業(yè)壁壘和國(guó)內(nèi)電子特氣現(xiàn)狀:電子特氣對(duì)氣源和供應(yīng)系統(tǒng)有著苛刻的要求,屬于典型的技術(shù)密集型行業(yè)。技術(shù)工藝、設(shè)備資質(zhì)、客戶(hù)認(rèn)證、市場(chǎng)服務(wù)共同構(gòu)成了電子特氣的四大行業(yè)壁壘。其中,氣體純化和氣體精度是氣體制造的兩大技術(shù)壁壘。更多 +
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減壓閥為什么壓力表精度等級(jí)用1.6級(jí)?
減壓閥為什么壓力表精度等級(jí)用1.6級(jí)? 一般壓力表的準(zhǔn)確度等級(jí)中為何要采用1.6級(jí)而不用1.5級(jí)? 就要了解一下標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)中的優(yōu)先數(shù)系基本知識(shí)。對(duì)于數(shù)系,國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T321規(guī)定了“優(yōu)先數(shù)系”,采用公比為10的1/n次冪,分別有10的1/5、1/10、1/20、1/40、1/80次方,代號(hào)分別是R5、R10、R20、R40、R80。壓力表的準(zhǔn)確度等級(jí)就是采用了R5數(shù)系。 R5數(shù)系的公比為:10的1/5更多 +
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低Mo火成巖樣品Mo同位素高精度分析方法研究取得進(jìn)展
穩(wěn)定Mo同位素在低溫體系中已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于古氧化-還原環(huán)境重建。在高溫體系中,其在示蹤成礦物質(zhì)來(lái)源、俯沖帶物質(zhì)循環(huán)及核-幔分異等方面也取得了較好的研究成果。然而對(duì)于(超)低含量(ppb級(jí))的火成巖樣品的Mo同位素組成,如地幔巖石(39–47 ppb)及淡色花崗巖(10–50 ppb),目前研究程度仍然較低。低Mo地質(zhì)樣品在化學(xué)純化過(guò)程中需要較大的分析量(1–5 g),這使得超低含量地質(zhì)樣品的Mo同位素分析極具挑戰(zhàn)性。然而,獲得高精度的低Mo樣品分析方法不僅可以完善Mo更多 +
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