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: 四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用

四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過(guò)程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控
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: 碳的穩(wěn)定同位素

自然界中碳元素有三種同位素，即穩(wěn)定同位素12C、13C和放射性同位素14C，14C的半衰期為5730年，14C的應(yīng)用主要有兩個(gè)方面：一是在考古學(xué)中測(cè)定生物死亡年代，即放射性測(cè)年法；二是以14C標(biāo)記化合物為示蹤劑，探索化學(xué)和生命科學(xué)中的微觀運(yùn)動(dòng)。一、14C測(cè)年法自然界中的14C是宇宙射線與大氣中的氮通過(guò)核反應(yīng)產(chǎn)生的。碳-14不僅存在于大氣中，隨著生物體的吸收代謝，經(jīng)過(guò)食物鏈進(jìn)入活的動(dòng)物或人體等一切生物體中。由于碳-14一面在生成，一面又以一定的速率在衰變，致使碳-14在自然界中（包
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: 石油開(kāi)采時(shí)注入的氮?dú)庥惺裁醋饔茫?/a>

從多油藏的角度看，油層注氮主要有如下幾方面作用： 1．保持油層壓力將油氣層的壓力保持或高于其露點(diǎn)壓力或泡點(diǎn)壓力，或保持在目前壓力水平上，以使油氣層流體能順利流出。 2．氣頂驅(qū)替在油藏最佳部位注入氮?dú)?，可保持或提高油藏壓力并同時(shí)驅(qū)替和采出氣頂氣。 3．閣樓油開(kāi)采高壓氮?dú)饪蓪?gòu)造頂部的閣樓層中被圈閉的原油驅(qū)替到生產(chǎn)井中。 4．驅(qū)動(dòng)二氧化碳段塞
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: 蝕刻技術(shù)中特種氣體的作用

硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進(jìn)后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬?gòu)?fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等蝕刻是采用化學(xué)和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程。刻蝕的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。刻蝕分為濕法蝕
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: 影響標(biāo)準(zhǔn)氣體穩(wěn)定度的四大因素

一、氣體組分的相容性。如果配制氮?dú)庵幸谎趸?氮?dú)獾臉?biāo)準(zhǔn)氣體，如果高純氮中含有氧或充裝中帶入氧，那么混合氣體就變成了二氧化氮/氮?dú)饬恕㈩愃魄闆r的問(wèn)題整理為以下幾點(diǎn)： 1、可燃性氣體或自燃?xì)怏w與氧化性氣體：如果在爆炸下限以上或最小需氧量以上將可燃性氣體和氧化性氣體充入同一個(gè)氣瓶中，會(huì)有爆炸的危險(xiǎn)。碳氫化合物和氫氣作為可燃?xì)怏w容易被人們重視，而一氧化碳的可燃性卻常常被人們忽視，而只是關(guān)注了它的毒性。氧氣是助燃?xì)怏w，而一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、 F2、氯氣、三氟化氮
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: 我國(guó)已實(shí)現(xiàn)甲烷溫室一步轉(zhuǎn)為液態(tài)

昨日紐小編從上?？萍即髮W(xué)獲悉，該校物質(zhì)科學(xué)與技術(shù)學(xué)院左智偉科研團(tuán)隊(duì)成功開(kāi)發(fā)出一種廉價(jià)、高效的鈰基催化劑和醇催化劑的協(xié)同催化體系，解決了利用光能在室溫下把甲烷一步轉(zhuǎn)化為液態(tài)產(chǎn)品的科學(xué)難題，為甲烷轉(zhuǎn)化成高附加值的化工產(chǎn)品提供了嶄新的解決方案。中國(guó)科學(xué)院院士、上?？萍即髮W(xué)副校長(zhǎng)丁奎嶺這樣評(píng)價(jià)這項(xiàng)研究成果：“由于甲烷分子碳氫鍵的高度穩(wěn)定性和弱極性，它的轉(zhuǎn)化極具挑戰(zhàn)性，通常需要高溫高壓等苛刻的反應(yīng)條件，因此如何在溫和條件下實(shí)現(xiàn)甲烷分子碳氫鍵的官能團(tuán)化，被認(rèn)為是化學(xué)中的&lsqu
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: 激光器使用的激光氣體和切割輔助氣

激光氣體中的發(fā)生氣體時(shí)激光發(fā)生器上用來(lái)產(chǎn)生激光的氣體，對(duì)氣體質(zhì)量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達(dá)99.999%，高純氮?dú)獾募兌?9.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產(chǎn)生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮?dú)馐瞧胶鈿怏w，氣體中的水分、氧份、有機(jī)氣體雜質(zhì)對(duì)激光機(jī)的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機(jī)對(duì)這些氣體的質(zhì)量要求特別高。激光切割輔助氣體主要是干燥空氣、高純氮?dú)饣蚬I(yè)氧氣，當(dāng)切割不銹鋼板或是切割鋁板時(shí)一般使用高純氮?dú)?/div> 更多 +

: 如何檢查氣體剩余量？

瓶裝氣體現(xiàn)有氣態(tài)和液態(tài)兩種。氧氣、氮?dú)狻鍤?、氫氣、氦氣、空氣為氣態(tài)氣體，乙炔氣為氣態(tài)溶解在丙酮之中，液氨、二氧化碳、笑氣等為液態(tài)氣體; 檢查氣態(tài)氣體是否符合滿瓶，常用的檢查方法是用壓力表測(cè)試氣瓶的顯示壓力; 檢查液態(tài)氣體是否符合滿瓶，常用的檢查方法是用磅稱稱重量，氣瓶鋼印所示的“W”符號(hào)是指鋼瓶的重量; 如乙炔氣為4-5Kg/瓶，其稱檢方法：總重量減去氣瓶的重量，以此類推; 乙炔不以減壓器(表)所顯示的壓力為滿瓶依據(jù)或標(biāo)準(zhǔn)。
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: 高純硅烷和普通硅烷的品質(zhì)指標(biāo)對(duì)比

高純硅烷的品質(zhì)無(wú)統(tǒng)一規(guī)定，各個(gè)生產(chǎn)單位生產(chǎn)的硅烷品質(zhì)通常有微小差別。下標(biāo)是5N、6N級(jí)高純硅烷和普通硅烷品質(zhì)指標(biāo)。從表中可以看出，5N級(jí)硅烷除氫氣、氦氣外，雜質(zhì)氣體氧（氬）、一氧化碳+二氧化碳控制在0.4ppmv，其他雜質(zhì)氣體均在0.2ppmv。6N級(jí)硅烷均控制在0.1ppm。普通硅則高了一個(gè)數(shù)量級(jí)，氯化物甚至達(dá)到了15ppmv，高了兩個(gè)數(shù)量級(jí)。
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: 有趣的氦氣真的安全么？

氦氣，為無(wú)色無(wú)味，不可燃?xì)怏w?；瘜W(xué)性質(zhì)完全不活潑，通常狀態(tài)下不與其它元素或化合物結(jié)合，氦氣在空氣里含量很低，不排除我們呼吸的時(shí)候會(huì)吸進(jìn)一點(diǎn)，因此即使氦氣進(jìn)入人體也是無(wú)害的。但是如果吸入大量氦氣會(huì)導(dǎo)致缺氧，所以吸入大量氦氣對(duì)人體有害。如果不慎吸入大量氦氣，會(huì)造成體內(nèi)氧氣被氦氣取代，因而發(fā)生缺氧（呼吸反射是受體內(nèi)過(guò)量二氧化碳驅(qū)動(dòng)，而對(duì)缺氧并不敏感），嚴(yán)重的甚至?xí)舷⑺劳觥?nbsp; &nb
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