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二氧化碳市場現(xiàn)心電圖
山東地區(qū)二氧化碳市場價格能持兩周左右價格穩(wěn)定的情況少之又少，但是市場價格在短時間之內(nèi)出現(xiàn)暴漲暴跌的情況也較少。然而，據(jù)卓創(chuàng)統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，8月10-31日期間，山東地區(qū)二氧化碳市場價格風向標的某企業(yè)報價先后經(jīng)歷一波過山車行情，首先該廠報價在8月10-23日期間累計上漲170元/噸，在8月27-29日期間累計下跌150元/噸，最后8月31日該廠報價又止跌反彈30元/噸，其價格調(diào)整之頻繁，價格調(diào)整幅度之劇烈令業(yè)者咋舌。這背后原因為何？ 據(jù)紐小編得知，8月中旬，因明水大化、聯(lián)盟、鑫匯新能源更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控更多 +
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碳的穩(wěn)定同位素
自然界中碳元素有三種同位素，即穩(wěn)定同位素12C、13C和放射性同位素14C，14C的半衰期為5730年，14C的應用主要有兩個方面：一是在考古學中測定生物死亡年代，即放射性測年法；二是以14C標記化合物為示蹤劑，探索化學和生命科學中的微觀運動。 一、14C測年法 自然界中的14C是宇宙射線與大氣中的氮通過核反應產(chǎn)生的。碳-14不僅存在于大氣中，隨著生物體的吸收代謝，經(jīng)過食物鏈進入活的動物或人體等一切生物體中。由于碳-14一面在生成，一面又以一定的速率在衰變，致使碳-14在自然界中（包更多 +
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石油開采時注入的氮氣有什么作用？
從多油藏的角度看，油層注氮主要有如下幾方面作用： 1．保持油層壓力 將油氣層的壓力保持或高于其露點壓力或泡點壓力，或保持在目前壓力水平上，以使油氣層流體能順利流出。 2．氣頂驅(qū)替 在油藏最佳部位注入氮氣，可保持或提高油藏壓力并同時驅(qū)替和采出氣頂氣。 3．閣樓油開采 高壓氮氣可將構(gòu)造頂部的閣樓層中被圈閉的原油驅(qū)替到生產(chǎn)井中。 4．驅(qū)動二氧化碳段塞更多 +
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蝕刻技術中特種氣體的作用
硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬復合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等 蝕刻是采用化學和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程?？涛g的目的是在涂膠的硅片上正確地復制掩膜圖形?？涛g分為濕法蝕更多 +
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影響標準氣體穩(wěn)定度的四大因素
一、氣體組分的相容性。如果配制氮氣中一氧化氮/氮氣的標準氣體， 如果高純氮中含有氧或充裝中帶入氧， 那么混合氣體就變成了二氧化氮/氮氣了、類似情況的問題整理為以下幾點： 1、 可燃性氣體或自燃氣體與氧化性氣體： 如果在爆炸下限以上或最小需氧量以上將可燃性氣體和氧化性氣體充入同一個氣瓶中， 會有爆炸的危險。碳氫化合物和氫氣作為可燃氣體容易被人們重視，而一氧化碳的可燃性卻常常被人們忽視， 而只是關注了它的毒性。氧氣是助燃氣體， 而一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、 F2、 氯氣、三氟化氮更多 +
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我國已實現(xiàn)甲烷溫室一步轉(zhuǎn)為液態(tài)
昨日紐小編從上海科技大學獲悉，該校物質(zhì)科學與技術學院左智偉科研團隊成功開發(fā)出一種廉價、高效的鈰基催化劑和醇催化劑的協(xié)同催化體系，解決了利用光能在室溫下把甲烷一步轉(zhuǎn)化為液態(tài)產(chǎn)品的科學難題，為甲烷轉(zhuǎn)化成高附加值的化工產(chǎn)品提供了嶄新的解決方案。 中國科學院院士、上海科技大學副校長丁奎嶺這樣評價這項研究成果：“由于甲烷分子碳氫鍵的高度穩(wěn)定性和弱極性，它的轉(zhuǎn)化極具挑戰(zhàn)性，通常需要高溫高壓等苛刻的反應條件，因此如何在溫和條件下實現(xiàn)甲烷分子碳氫鍵的官能團化，被認為是化學中的&lsqu更多 +
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激光器使用的激光氣體和切割輔助氣
激光氣體中的發(fā)生氣體時激光發(fā)生器上用來產(chǎn)生激光的氣體，對氣體質(zhì)量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產(chǎn)生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質(zhì)對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質(zhì)量要求特別高。 激光切割輔助氣體主要是干燥空氣、高純氮氣或工業(yè)氧氣，當切割不銹鋼板或是切割鋁板時一般使用高純氮氣更多 +
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如何檢查氣體剩余量？
瓶裝氣體現(xiàn)有氣態(tài)和液態(tài)兩種。氧氣、氮氣、氬氣、氫氣、氦氣、空氣為氣態(tài)氣體，乙炔氣為氣態(tài)溶解在丙酮之中，液氨、二氧化碳、笑氣等為液態(tài)氣體; 檢查氣態(tài)氣體是否符合滿瓶，常用的檢查方法是用壓力表測試氣瓶的顯示壓力; 檢查液態(tài)氣體是否符合滿瓶，常用的檢查方法是用磅稱稱重量，氣瓶鋼印所示的“W”符號是指鋼瓶的重量; 如乙炔氣為4-5Kg/瓶，其稱檢方法：總重量減去氣瓶的重量，以此類推; 乙炔不以減壓器(表)所顯示的壓力為滿瓶依據(jù)或標準。更多 +
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高純硅烷和普通硅烷的品質(zhì)指標對比
高純硅烷的品質(zhì)無統(tǒng)一規(guī)定，各個生產(chǎn)單位生產(chǎn)的硅烷品質(zhì)通常有微小差別。下標是5N、6N級高純硅烷和普通硅烷品質(zhì)指標。 從表中可以看出，5N級硅烷除氫氣、氦氣外，雜質(zhì)氣體氧（氬）、一氧化碳+二氧化碳控制在0.4ppmv，其他雜質(zhì)氣體均在0.2ppmv。6N級硅烷均控制在0.1ppm。普通硅則高了一個數(shù)量級，氯化物甚至達到了15ppmv，高了兩個數(shù)量級。更多 +
