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稀有氣體的用途有哪些？
空氣是制取稀有氣體的主要原料，通過液態(tài)空氣分級蒸餾，可得稀有氣體混合物，再用活性炭低溫選擇吸附法，就可以將稀有氣體分離開來。 稀有氣體都是無色、無臭、無味的，微溶于水，溶解度隨分子量的增加而增大。稀有氣體的分子都是由單原子組成的，它們的熔點和沸點都很低，隨著原子量的增加，熔點和沸點逐漸增大。它們在低溫時都可以液化。 性質(zhì)決定用途，隨著人們對稀有氣體性質(zhì)越來越深入地了解，它們的用途也越來越廣泛，工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)、醫(yī)學(xué)、尖端科技領(lǐng)域甚至日常生活中，我們都可以發(fā)現(xiàn)更多 +
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氧同位素-氧18的氧氣的用途有哪些？
氧18的氧氣的用處 元素氧的一種穩(wěn)定的同位素，符號岾O，簡寫為18O。1929年W.F.吉奧克和H.L.約翰斯頓用分子光譜法發(fā)現(xiàn)天然氧是由氧16、氧17、氧18三種同位素所組成?，F(xiàn)代測定，空氣中氧的同位素準確組成為氧16:氧17:氧18=2667:1:5.5。 1937年H.C.尤里和J.R.霍夫曼用水精餾法首要得到了富集了氧18的水（重氧水）?，F(xiàn)代別離氧18的首要辦法仍是水精餾法，用該法已得到99.8％的H218O。低溫精餾一氧化碳或一氧化氮也可別離氧18。 因為氧的重同位素的發(fā)現(xiàn)，引起了原子量更多 +
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硅烷在使用中有哪些容易被大家忽略的安全風(fēng)險
硅烷的一大應(yīng)用是非晶半導(dǎo)體非晶硅。與單晶半導(dǎo)體材料相比非晶硅的特點是容易形成極薄的(厚度10nm左右)大面積器件，襯底可以是玻璃、不銹鋼、甚至塑料，表面可以是平面也可是曲面，因此可以制成各種性能優(yōu)異的器件。 如今，硅烷已成為半導(dǎo)體微電子工藝中使用的最主要的特種氣體, 用于各種微電子薄膜制備, 包括單晶膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化硅、金屬硅化物等。硅烷的微電子應(yīng)用還在向縱深發(fā)展: 低溫外延、選擇外延、異質(zhì)外延。不僅用于硅器件和硅集成電路，也用于化合物半導(dǎo)體器件(砷化鎵、碳化硅等)。在超晶更多 +
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氮氣在天然氣(主要成份甲烷)輸送中的應(yīng)用
天然氣（主要成分為甲烷 CH4）一般被冷卻到大約 - 163°C (?260°F) 并轉(zhuǎn)化為液態(tài)形式。由于在常壓下，液化天然氣 (LNG) 的體積僅為氣態(tài)天然氣體積的 1/600。 減小天然氣體積可以實現(xiàn)更有用的遠程輸送，并通過特別設(shè)計的低溫海運船只（LNG船舶）輸送到?jīng)]有輸氣管道的當?shù)?。輸入的液化天然氣一般通過近海從頭氣化終端將其從頭加熱后變?yōu)闅鈶B(tài)天然氣。 世界各地出產(chǎn)的液化天然氣成分各不相同，這主要取決于儲油層液體的性質(zhì)、是否與石油出產(chǎn)有關(guān)以及在液化過程中所提取的液化石油氣的重量更多 +
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低Mo火成巖樣品Mo同位素高精度分析方法研究取得進展
穩(wěn)定Mo同位素在低溫體系中已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于古氧化-還原環(huán)境重建。在高溫體系中，其在示蹤成礦物質(zhì)來源、俯沖帶物質(zhì)循環(huán)及核-幔分異等方面也取得了較好的研究成果。然而對于（超）低含量（ppb級）的火成巖樣品的Mo同位素組成，如地幔巖石（39–47 ppb）及淡色花崗巖（10–50 ppb），目前研究程度仍然較低。低Mo地質(zhì)樣品在化學(xué)純化過程中需要較大的分析量（1–5 g），這使得超低含量地質(zhì)樣品的Mo同位素分析極具挑戰(zhàn)性。然而，獲得高精度的低Mo樣品分析方法不僅可以完善Mo更多 +
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兩會期間提出了“關(guān)于加強我國氦氣資源開發(fā)利用的建議”
近年來氦氣作為航空航天、科學(xué)研究、高科技產(chǎn)業(yè)制造等領(lǐng)域至關(guān)重要的稀有氣體，已成為世界各國十分關(guān)注的重要戰(zhàn)略資源。紐小編了解到我國氦資源的主要應(yīng)用領(lǐng)域包括低溫超導(dǎo)、氣球載氣、半導(dǎo)體、光纖制造、真空檢漏等。其中高端裝備制造中的半導(dǎo)體和光纖領(lǐng)域，對氦氣的需求占總需求的大部分;另外醫(yī)用核磁共振(低溫超導(dǎo))和大科學(xué)工程等研究低溫需求也占有一定的比例。 今年全國兩會期間，全國政協(xié)委員、中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所研究員汪鵬飛提出了“關(guān)于加強我國氦氣資源開發(fā)利用的建議”，他建議逐步開展氦更多 +
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氦-3在低溫制冷領(lǐng)域的使用
He-3的一同性質(zhì)引起低溫物理和低溫工程領(lǐng)域研究者的極大喜歡，其間最令人注目的是He-3在獲取1K以下低溫環(huán)境所扮演的絕無僅有的人物，而這個溫度區(qū)間正是基礎(chǔ)物理學(xué)等現(xiàn)代高新科學(xué)研究的重要領(lǐng)域。He-3具有低沸點、低密度、高比熱容、高熱導(dǎo)率等性質(zhì)，這些性質(zhì)使它成為低溫工程中極為特別的一種制冷工質(zhì)，尤其是在接近絕對零度的極低溫下。 1956年，瓦爾特斯（G. K. Walters）和費爾班克斯（W. M. Fairbanks）發(fā)現(xiàn)，溫度在0.87K以下時，3He和4He混合液分紅兩個徹底不同的相，較輕更多 +
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史上最全的同位素應(yīng)用大全！
3He同位素用途：應(yīng)用于中子探測器、核磁共振追蹤、低溫物理和實驗室研發(fā)方面，在超導(dǎo)電磁冷卻、軍工、醫(yī)療、半導(dǎo)體、石化、光電子和激光陀螺等方面也有所應(yīng)用。 D同位素用途：用于特種燈泡、核研究、氘核加速器的轟擊粒子、示蹤劑、低水峰光纖處理；在存儲器生產(chǎn)中作為氮化硅和氧氮化硅的鈍化薄層；應(yīng)用于核物理、有機合成、原子吸收光譜、標準氣、校正氣等；在化學(xué)、生物、農(nóng)業(yè)、地質(zhì)等科研領(lǐng)域作示蹤劑及核醫(yī)學(xué)PET診斷試劑；NMR氘代試劑用于固態(tài)核磁、動力學(xué)研究，通過蛋白質(zhì)種群的結(jié)構(gòu)、功能等整合技術(shù)，包括同位素編碼親和標更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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H2O和O2對SF6降解效率和降解產(chǎn)物的影響
SF6因其具有良好的絕緣和滅弧性能，在電力行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。電氣設(shè)備在維護、檢修和退役時會產(chǎn)生大量的SF6廢氣，但由于SF6氣體化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，極難分解，具有高溫室效應(yīng)潛在值（GWP）而被列為溫室氣體行列，SF6廢氣的處理對保護環(huán)境具有長遠意義。等離子體法是利用等離子體中的有效活性物質(zhì)與SF6發(fā)生反應(yīng)，使其在短時間內(nèi)發(fā)生分解，是目前比較流行的一種降解方式。介質(zhì)阻擋放電（DBD）等離子體作為一種低溫等離子體，實驗設(shè)備和放電所需條件相對簡單，易于控制，操作安全可靠等一系列優(yōu)點使其廣泛應(yīng)用于處理揮發(fā)性有機物廢氣。 &更多 +
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