氬氣與氯氣電漿有什么不同之處?
文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2023-03-28 10:57:00【大
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什么是等離子體?等離子體,也被稱為等離子體,是一種電離的氣態(tài)物質(zhì),由一些電子被剝離的原子以及原子團(tuán)電離產(chǎn)生的正負(fù)離子組成。它是一種宏觀的電中性電離氣體,其尺度大于德拜長度,其運(yùn)動(dòng)主要由電磁力控制,并表現(xiàn)出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中,通常被認(rèn)為是除固體、液體和氣體之外的第四種物質(zhì)狀態(tài)。那么氬等離子體和氯等離子體有什么區(qū)別呢?
1、氬等離子體
使用氬氣微等離子體系統(tǒng)分解氣態(tài)二甲基硫,將其轉(zhuǎn)化為其他物質(zhì),然后通過水洗塔或其他方法減少二甲基硫的大氣排放,以實(shí)現(xiàn)環(huán)境保護(hù)。在實(shí)驗(yàn)過程中,研究人員使用光學(xué)發(fā)射光譜儀和各種氣體分析儀來檢測、反應(yīng)和產(chǎn)生氬等離子體。研究表明,二甲基硫可以分解為激發(fā)態(tài),如C**、C2**、CN**、CO*和CH*。被激發(fā)的物種離開處理系統(tǒng)并重組為以固體和氣體形式存在的其他穩(wěn)定化合物或物種。
在氣相中,具有小分子量的物質(zhì)是活性的,并且可以結(jié)合以形成具有較高熱力學(xué)穩(wěn)定性的氣體物質(zhì),例如H2S、CS2、CO和H2。隨著處理時(shí)間的延長,由于H2S的分解,S2和H2的濃度增加。關(guān)于分解產(chǎn)物,我們可以使用NaOH溶液將H2S從氣體產(chǎn)物中分離出來,然后使用活性炭收集CS2。排放的氫氣可以用作再生和回收的能源。
2、氯等離子體
在相同的壓力下,氯分子的濃度降低,而氯原子和氯離子的濃度增加。由于輸入功率越高,電子密度越高,氯分子的離解率和離解率就越高。在相同功率下,氯分子和氯原子的濃度隨著壓力的增加而增加,氯離子的濃度降低。此外,帶負(fù)電荷的氣體Cl2容易與電子碰撞,產(chǎn)生消耗電子的負(fù)離子發(fā)生器(Cl-),導(dǎo)致電子密度降低,氯分子的離解率降低。在相同的壓力和輸入功率下,越靠近空腔中心,氯分子的濃度越低,氯離子的濃度越高。越靠近空腔中心,電子密度和溫度越高,氯分子的離解率就越高。當(dāng)在蝕刻過程中打開預(yù)加載電源時(shí),氯原子和氯離子的濃度暫時(shí)降低,氯分子的濃度增加。
隨著氯原子和氯離子的濃度在更靠近晶片表面的地方降低,濃度朝著腔壁進(jìn)一步增加。由于氯原子與晶片表面的硅發(fā)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生SiClx,氯離子噴射并驅(qū)動(dòng)晶片表面的蝕刻,導(dǎo)致氯原子和氯離子的消耗,導(dǎo)致濃度下降。當(dāng)預(yù)加載電壓關(guān)閉時(shí),氯原子和氯離子的濃度暫時(shí)增加。而氯分子的濃度降低。此外,由于氯離子Cl2+和Cl?在蝕刻更靠近腔壁后在腔表面附近的再結(jié)合作用,氯分子和原子的濃度變得更高。