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含氟蝕刻氣體的種類和介紹

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時間:2023-03-24 11:55:00【
目前,氟化蝕刻氣體是一種隱形的“刀具”,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體或LCD前端工藝,甚至可以在微米厚的薄層上切割納米級凹槽。你能仔細想想這幅畫嗎? 那么,氟化蝕刻氣體是什么呢?它們是如何工作的? 用于蝕刻的氣體稱為蝕刻氣體,通常是氟化物氣體,如四氟、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 含氟蝕刻氣體是電子氣體的一個重要分支,是制造超大集成電路、平面顯示器、太陽能電池和玻璃纖維等電子工業(yè)不可或缺的原材料。它們被廣泛用于半導(dǎo)體工藝,如薄膜、蝕刻、摻雜、氣相沉積和擴散。國家發(fā)展改革委《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄(2011年版)(修訂版)》將電子氣體列入國家重點產(chǎn)品和行業(yè)目錄。 蝕刻方法包括濕法化學(xué)蝕刻和干法化學(xué)蝕刻。 由于其蝕刻方向性強、工藝控制準確、方便、無解毒、無襯底損傷和雜質(zhì),干法蝕刻越來越多地被使用。 蝕刻是對基板上未被光刻膠掩模的加工表面進行蝕刻的過程,如氧化硅膜、金屬膜等。,以獲得被光刻膠掩模的區(qū)域,從而在基板表面上獲得所需的成像圖案。蝕刻的基本要求是圖案邊緣干凈,線條清晰,圖案變換差異小,光刻膠膜及其掩模保護表面沒有損傷和鉆孔侵蝕。
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