氯氣，化學(xué)式為Cl?。常溫常壓下為黃綠色有毒氣體，易壓縮,可液化為金黃色液態(tài)氯。氯氣在早期作為造紙、紡織工業(yè)的漂白劑。氮?dú)?，化學(xué)式為N2，通常狀況下是一種無色無味的氣體，且通常無毒。由于氮的化學(xué)惰性，常用作保護(hù)氣體，如：瓜果，食品，燈泡填充氣。液氮還可用作深度冷凍劑.高純氮?dú)庥米魃V儀等儀器的載氣。用作銅管的光亮退火保護(hù)氣體。跟高純氦氣、高純二氧化碳一起用作激光切割機(jī)的激光氣體。氮?dú)庖沧鳛槭称繁ｕr保護(hù)氣體的用途。無論是氮?dú)膺€是氯氣，都是常見的化學(xué)氣體，今天紐瑞德特氣小編月月為大家介紹一下當(dāng)氯氣遇到氮?dú)猓葰?氮?dú)饣旌想姖{蝕刻的過程會(huì)變得如何有趣！
 

  電漿蝕刻製程中，離子通量與離子轟擊能量為影響蝕刻率的兩個(gè)關(guān)鍵電漿參數(shù)。為了穩(wěn)定蝕刻率，本研究使用傳輸線式微波干涉儀與射頻阻抗計(jì)做為電漿密度、離子電流與射頻峰值電壓的感測器，分別發(fā)展出兩套回授控制系統(tǒng)。第一套系統(tǒng)為雙變數(shù)回授控制電漿密度與射頻峰值電壓，第二套系統(tǒng)為雙變數(shù)回授控制離子電流與射頻峰值偏壓。兩套系統(tǒng)的致動(dòng)器皆為兩部13.56 MHz的射頻功率產(chǎn)生器，一部供應(yīng)電漿功率，可調(diào)整電漿密度或離子電流；另一部提供射頻偏壓功率，可調(diào)整射頻峰值電壓。

  在蝕刻至介面層時(shí)，通常會(huì)降低偏壓功率以避免過蝕刻的情形，但功率/電壓法應(yīng)用在低偏壓條件下將低估離子電流值，故在設(shè)計(jì)第二套系統(tǒng)前，先以實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)建構(gòu)出類神經(jīng)網(wǎng)路，使量測的離子電流經(jīng)過網(wǎng)路修正后可反應(yīng)真實(shí)的離子電流值，再實(shí)現(xiàn)其回授控制系統(tǒng)，最后分別在兩套系統(tǒng)上規(guī)劃以開迴路與閉迴路兩種控制方式進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示在穩(wěn)定的氯氣/氮?dú)怆姖{狀態(tài)下，雙變數(shù)回授控制離子電流與峰值偏壓可有效穩(wěn)定蝕刻率，而回授控制電漿密度與峰值偏壓的效果則不理想。

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