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乙烯、乙炔和丙烯的熱解炭的沉積速率
當(dāng)乙烯、乙炔和丙烯在950°下熱解時(shí)，熱解碳的化學(xué)氣相沉積速率隨氣體濃度而變化。如果氣體濃度較小，熱解碳的沉積速率與乙炔和丙烯的濃度呈平方關(guān)系，與乙烯的濃度呈立方關(guān)系。隨著濃度的增加，熱解碳的沉積速率遵循飽和吸附的生長(zhǎng)模式。因此，在低濃度條件下，CVD實(shí)際上是一個(gè)活性位點(diǎn)吸附的飽和吸附生長(zhǎng)過(guò)程。 隨著乙烯和其他氣體濃度的不斷增加，熱解碳的沉積速率線性增加，這是多環(huán)芳烴的縮合成核增長(zhǎng)。在900°C和1s的氣體停留時(shí)間下，每個(gè)組分中碳元素的分布如圖9所示。除未分解的原料氣外，大多數(shù)碳元素在更多 +
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常用氣體混合物
氣體混合物是指根據(jù)使用要求，按一定比例生產(chǎn)的兩種或多種純氣體的混合物。有二元或多組分氣體混合物，有數(shù)千種。普通氣體混合物分為普通氣體混合物和電子工業(yè)用氣體混合物。一般氣體混合物包括激光氣體混合物、特殊儀器氣體混合物、焊接氣體混合物、防腐氣體混合物、電光源氣體混合物、醫(yī)學(xué)和生物研究氣體混合物、消毒和滅菌氣體混合物、泄漏檢測(cè)（報(bào)警）氣體混合物、高壓氣體混合物和零級(jí)空氣。電子工業(yè)的混合物包括外延（生長(zhǎng)）混合物、化學(xué)氣相沉積（CVD）混合物、摻雜混合物、蝕刻混合物和其他電子混合物。更多 +
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氦氣用途及物化性質(zhì)
它的英文名字是Helium，它的符號(hào)是He。它是無(wú)色、無(wú)味、不易燃的氣體。 2.目的和應(yīng)用 用于超低溫研究、氣相分析、焊接、泄漏檢測(cè)、化學(xué)氣相沉積、晶體生長(zhǎng)、等離子體干蝕刻、特殊混合氣體等。以及標(biāo)準(zhǔn)氣體、平衡氣體、醫(yī)用氣體、氣球電子管潛水服等的充氣。 氦廣泛應(yīng)用于軍工、科研、石化、冷卻、醫(yī)療、半導(dǎo)體、管道泄漏檢測(cè)、超導(dǎo)實(shí)驗(yàn)、金屬制造、深海潛水、高精度焊接、光電產(chǎn)品生產(chǎn)等領(lǐng)域。 （1） 低溫冷源：利用液氦的低沸點(diǎn)，液氦可以用于超低溫冷卻。超低溫冷卻技術(shù)廣泛應(yīng)用于超導(dǎo)技術(shù)等領(lǐng)域。超導(dǎo)材料必須在低溫（更多 +
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電子氣體定義及需求分析
根據(jù)氣體性質(zhì)和供應(yīng)包裝的不同，一般電子氣體可劃分為大宗普通氣體、特種氣體和大宗特種氣體。 電子氣體行業(yè)的定義 電子氣體是電子工業(yè)生產(chǎn)不可缺少的原料，如超大規(guī)模集成電路、平面顯示器、復(fù)合半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池、光纖等。它們廣泛應(yīng)用于薄膜、蝕刻、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝。 電子燃?xì)庑枨蠓治? 電子氣體傳輸系統(tǒng)是指電子氣體從氣源端穩(wěn)定傳輸至工藝生產(chǎn)設(shè)備的氣體消耗點(diǎn)，無(wú)二次污染，并控制工藝所需的流量和壓力等參數(shù)，滿足工藝過(guò)程的要求，充分保證工藝和產(chǎn)品的安全使用。 根據(jù)中國(guó)報(bào)告廳發(fā)布的報(bào)告，消費(fèi)電子產(chǎn)品更多 +
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氦沉積類(lèi)型
含氦氣包括來(lái)自氣田、油氣田的天然氣、來(lái)自油氣藏的天然氣和來(lái)自油氣藏的天然氣。更多 +
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高純氣體真空鍍膜中的應(yīng)用
1、刀具 納米微粒PVD涂層的微觀結(jié)構(gòu)具有高韌性、高硬度和高抗氧化性的特點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)加工過(guò)程中表面極其光滑，無(wú)摩擦和切屑去除。在涂層沉積過(guò)程中，可實(shí)現(xiàn)涂層與產(chǎn)品基體之間的超強(qiáng)附著力，并可有效控制涂層的沉積厚度（。可以對(duì)不同的產(chǎn)品類(lèi)型進(jìn)行涂層處理。根據(jù)PVD的刀具還具有根據(jù)CVD的熱穩(wěn)定性，以實(shí)現(xiàn)強(qiáng)大而高效的刀具加工（胸針、銑刀、絲錐、鉆頭、切削顆粒、定心桿等），并且具有優(yōu)異的性能。 2、模具、模具配件及機(jī)械零件 PVD涂層工藝用于各種形狀（塑料模具、金屬壓花模具、壓鑄模具、模具、拉伸模具、拉伸更多 +
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氙氣Xe麻醉劑的新進(jìn)展
一種使用稀有氣體氙作為麻醉劑的麻醉新方法正在被臨床認(rèn)證。這種新的麻醉方法不但更加有效，而且沒(méi)有副作用。 早在30年代，人們就已經(jīng)認(rèn)識(shí)到稀有氣體氙具有麻醉作用。但由于氙比空氣沉，會(huì)沉積在肺中的問(wèn)題一直沒(méi)能得到解決，因 此氣作為麻醉手段的使用始終受到極大限制。 目前研制的新方法是，將溶于脂溶劑，然后對(duì)需 要對(duì)手術(shù)的患者進(jìn)行靜脈注射。這種方法可以使麻醉劑的用量極大降低，比如進(jìn)行2個(gè)小時(shí)的麻醉，氙氣的用量將由常規(guī)所需要的12升降為150毫升。 這種新的氙氣麻醉法還具有患者會(huì)更快地恢復(fù)知覺(jué)并完全清醒，手更多 +
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常見(jiàn)高純氣體的用途
一、高純氧： 高純氧用于二氧化硅的化學(xué)氣相沉積;作為氧化源與產(chǎn)生高純水的反應(yīng)劑;干法氧化; 與四氟化碳混合，用于等離子刻蝕。氧的主要用途源于它能維持生命和助燃性質(zhì); 在冶金工業(yè)中有廣泛應(yīng)用。還可用于水質(zhì)處理。所有的氧化反應(yīng)和燃燒過(guò)程都需要氧，例如煉鋼時(shí)除硫、磷等雜質(zhì)，氧和乙炔混合氣燃燒時(shí)溫度高達(dá)3500℃，用于鋼鐵的焊接和切割。玻璃制造、水泥生產(chǎn)、礦物焙燒、烴類(lèi)加工都需要氧。液氧還用作火箭燃料，它比其他更多 +
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氟化物氣體應(yīng)用
COF2；有機(jī)合成中間體，氟化劑。 CHF3；蝕刻，冷凍劑，有機(jī)合成。 CH2F2；致冷劑。 CH3F；噴霧劑，C-F鍵的研究。 WF6；氟化劑，鎢載體，化學(xué)氣相沉積。 SF6；電子設(shè)備，雷達(dá)波導(dǎo)，粒子加速器，變壓器，避雷器的氣 絕緣體，制冷劑，示蹤裝置，醫(yī)療，半導(dǎo)體制造中的蝕刻、化學(xué)氣相沉積，標(biāo)準(zhǔn)氣，檢漏氣體，色譜儀的載氣。 NF3；火箭推進(jìn)劑，氟化劑，電子氣，等離子干刻，摻雜，激光，光導(dǎo)纖維 。 S更多 +
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氫化物氣體應(yīng)用
H2Se；實(shí)驗(yàn)用，摻雜氣，制備硒化物，擴(kuò)散、離子注入。 H2S；化學(xué)分析，金屬的精制，各種工業(yè)試劑、農(nóng)藥、醫(yī)藥品、螢光體、電發(fā)光、半導(dǎo)體光電曝光儀，硫及各種硫化物的制備，有機(jī)合成的還原劑、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、等離子干刻。 AsH3，擴(kuò)散、外延生長(zhǎng)，離子注入，化合物半導(dǎo)體用氣體，化學(xué)氣相沉積。 PH3；縮合催化劑，聚合引發(fā)劑，磷的有機(jī)化合物制備，發(fā)生氣體，外延生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入，蝕刻，化學(xué)氣相沉積，糧倉(cāng)的殺蟲(chóng)藥。 NH3；氮肥，銨鹽，硝酸，尿素，丙烯腈，藥品染料，金屬更多 +
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