氬氣在特殊領(lǐng)域的重要的應(yīng)用
氬氣在特殊領(lǐng)域中有著重要的應(yīng)用。它的主要用途之一是在光學(xué)領(lǐng)域中作為激光器的工作
介質(zhì)。此外,氬氣還可用于電弧焊、氣體保護(hù)焊、燈光效果和照明、溫控和降溫、醫(yī)療手
術(shù)、電氣設(shè)備絕緣保護(hù)等。在這些特殊用途中,氬氣發(fā)揮著非常重要的作用。
氬氣是目前廣泛應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域的一種稀有氣體。在自然界中,它具有極高的惰性,既不
燃燒也不助燃。在飛機(jī)制造、船舶、原子能和機(jī)械工業(yè)等領(lǐng)域,氬氣常被用作保護(hù)氣體,
用于對鋁、鎂、銅及其合金以及不銹鋼等特殊金屬進(jìn)行焊接,以防止焊接部件被空氣氧化
或硝化。
高純度的氬氣主要用于焊接、不銹鋼生產(chǎn)和冶煉。它還廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中的化
學(xué)氣相沉積、晶體生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅生產(chǎn)、鎢生產(chǎn)、離子注入和載流等
領(lǐng)域。在生產(chǎn)單晶和多晶硅時,燒結(jié)氬氣被用作保護(hù)氣體,以提高硅晶體的質(zhì)量。選擇高
純度的氬氣對制造硅晶體至關(guān)重要,這是一個問題,通過使用特定的設(shè)備可以解決。
當(dāng)氬氣的氧含量小于1ppm,并且水含量小于1ppm時,所生產(chǎn)的單晶硅的氧碳含量將不超
過0.5ppm。這樣操作有助于提高單晶硅的使用壽命,滿足各項要求,并因此獲得客戶的滿
意度和滿足市場需求。由于氬氣是蒸發(fā)而來且沒有經(jīng)過純化處理,其含氧量通常在2ppm至
5ppm之間。有時,氣體供應(yīng)商提供的氬氣含氧量會超過此范圍,而使用氬氣的客戶可能并
不了解氬氣的質(zhì)量,這將經(jīng)常會對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生影響。
只要使用氬氣凈化裝置處理氬氣原料氣體,無論其質(zhì)量如何,所得到的進(jìn)入晶體爐的氬氣
純度總是不變的。通常情況下,其雜質(zhì)O2<0.2PPM,濕度<1PPM,這有利于保證穩(wěn)定的
氬氣產(chǎn)生高質(zhì)量的晶體。