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四氟化碳,滿足半導(dǎo)體的“潔癖”

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2024-03-05 09:45:37【
四氟化碳,滿足半導(dǎo)體的“潔癖”

四氟化碳


隨著半導(dǎo)體行業(yè)的飛速發(fā)展,對(duì)于半導(dǎo)體微制造過(guò)程中的高純度和高可靠性要求也越來(lái)

越高。而在半導(dǎo)體微制造過(guò)程中,清洗、刻蝕、去污等過(guò)程都是必不可少的,所以,半

導(dǎo)體具有無(wú)與倫比的“潔癖”,因此清潔劑也成為關(guān)鍵材料之一。而四氟化碳,就是一種

有效的清潔劑,在半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)揮著極端重要的作用。

據(jù)國(guó)內(nèi)知名特種氣體公司武漢紐瑞德特種氣體有限公司介紹,四氟化碳由于其優(yōu)良的化

學(xué)性質(zhì),可以有效地清洗半導(dǎo)體表面,潔凈度高、不產(chǎn)生殘留物、容易揮發(fā)、不易燃等

特點(diǎn),因此被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗過(guò)程中。

此外,在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,刻蝕也是一樣重要的一步。而四氟化碳可以通過(guò)高頻電力

場(chǎng)使其成為離子,進(jìn)而起到刻蝕的作用。與其他刻蝕氣體相比,四氟化碳的刻蝕速度較

快,刻蝕后的表面質(zhì)量較好。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中,掌握去污技術(shù)非常重要。而四氟化碳具有優(yōu)異的物理和化學(xué)特性

,可以迅速完成去污任務(wù),且無(wú)需腐蝕表面。

與傳統(tǒng)的有機(jī)溶劑相比,四氟化碳由于其具有較高的化學(xué)活性和刻蝕性,可以加速清潔

過(guò)程的完成,減少對(duì)清潔板的腐蝕。與純水比較,四氟化碳可以有效地清洗表面高深的

縫隙和污垢,有助于提高清潔度。

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