氬氣是一種十分不活潑，既不能燃燒，也不助燃，在工業(yè)上應(yīng)用很廣的稀有氣體。通常我們?cè)诤附訒r(shí)會(huì)使用氬作為焊接保護(hù)氣，防止焊接件被空氣氧化或氮化。對(duì)鈦、鋯、鍺等特殊金屬的冶煉，以及電子工業(yè)中也需要用氬作保護(hù)氣。目前有學(xué)者對(duì)氬氣在對(duì)濺鍍二氧化鈦及碳薄膜特性的作用進(jìn)行了詳細(xì)的研究，就有紐瑞德特氣的小編月月來(lái)為大家做一個(gè)詳細(xì)的介紹吧！

  學(xué)者主要探討不同氬氣流量對(duì)濺鍍二氧化鈦及碳薄膜特性的影響。主要研究項(xiàng)目為：（I）探討不同氬氣流量對(duì)鍍膜速率的影響；（II）以接觸角量測(cè)儀分析二氧化鈦薄膜的光觸媒效能；（III）以拉曼光譜分析碳薄膜之鍵結(jié)型態(tài)；（IV）以原子力顯微鏡(AFM)觀察碳薄膜表面型貌及粗糙度；及（V）以紫外光-可見光光譜儀分析碳薄膜之光穿透率及吸收強(qiáng)度。膜厚分別為100、500與900nm之二氧化鈦薄膜試片，鍍製條件為射頻功率200W，及氬氣 流量分別于40及50SCCM；膜厚100nm之碳薄膜試片，鍍製條件為射頻功率分別為80、110與140W，及氬氣流量分別于30、40及50SCCM。

  由濺鍍過(guò)程之機(jī)制推測(cè)，在固定之真空腔製程壓力下（16mTorr），以不同之氬氣流量對(duì)鍍製薄膜特性之影響，可能因?yàn)榍惑w內(nèi)粒子之碰撞行為及氬氣于腔體內(nèi)之分壓改變而產(chǎn)生。研究結(jié)果顯示：（I）在較高氬氣流量下，使腔體內(nèi)氬氣之分壓充足，氬離子轟擊靶材的機(jī)率上升，且高氬氣流量對(duì)較大分子量沉積粒子（二氧化鈦）之干擾小，可使鍍膜速率增加；但對(duì)較小分子量沉積粒子（碳）之干擾大，可使鍍膜速率降低。（II）在較低氬氣流量的情況下鍍製之二氧化鈦薄膜會(huì)有較佳的光觸媒效果，可能是銳鈦礦結(jié)晶性較好所致。（III）在較高氬氣流量下鍍製的碳膜，從拉曼光譜分析中的ID/IG值上升，顯示碳薄膜內(nèi)部sp2鍵結(jié)比例增加，且由原子力顯微鏡得到薄膜之表面粗糙度升高，又由光譜儀分析中表明紅外光穿透率下降。以上結(jié)果皆證明，鍍率較慢的碳膜，可能使膜薄成長(zhǎng)之不連續(xù)性變多，造成薄膜無(wú)序及堆疊較不致密，易使內(nèi)部石墨組成增多所致。反之，在較低氬氣流量下，薄膜成長(zhǎng)之連續(xù)性較高且致密，會(huì)有較多的sp3鍵結(jié)，表面粗糙度下降，紅外光穿透率上升，為膜內(nèi)部類鉆石組成增多所致。

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