氯化氫氣體是一種腐蝕性的不燃燒氣體，與水不反應(yīng)但易溶于水，空氣中常以鹽酸煙霧的形式存在，主要用于電池、藥品、染料、化肥、玻璃加工、金屬清洗、有機(jī)合成、腐蝕照像、陶器制造、食品處理、無機(jī)氯化物制造等。最近有科學(xué)家正在探討氯化氫氣體與氯氣在Ge(100)表面的吸附與熱分解反應(yīng)，接下來就由紐瑞德特氣小編月月為大家介紹一下。

  我們利用程溫脫附質(zhì)譜(TPD)及X光光電子能譜(XPS)研究氯化氫(HCl)及氯氣(Cl2)在鍺(100)表面的吸附及熱分解反應(yīng)。于105K，曝露氯化氫于鍺表面，最初只出現(xiàn)分解吸附(Ge-H、Ge-Cl)；當(dāng)曝露量增大，伴隨有未分解吸附，依照曝露量多寡，在275 K未分解的氯化氫會(huì)分解并持續(xù)以分解吸附的型態(tài)吸附于表面；當(dāng)溫度升至675K時(shí)較弱的Ge-H鍵先斷，經(jīng)由再結(jié)合形成H2、HCl脫附，而殘馀分解吸附的Cl則于700K時(shí)Ge-Cl鍵斷裂，形成GeCl2脫附。因此氯化氫在鍺(100)表面熱分解的產(chǎn)物為H2、HCl、GeCl2。

  為了更進(jìn)一步了解氯在鍺(100)表面吸附的情形，將HCl的H置換成Cl，探討分子組成均為氯在鍺表面的吸附情形，并與氯化氫比較。發(fā)現(xiàn)兩者在鍺(100)表面于曝露量大時(shí)，均有未分解吸附的吸附態(tài)，但結(jié)構(gòu)不同，氯氣之分子吸附態(tài)于225K開始形成GeCl4脫附。兩者相似的是，室溫后均為分解吸附情形，故有相似的反應(yīng)路徑，不同的是氯氣均為Ge-Cl吸附情形，無H存在，故于700K時(shí)Ge-Cl鍵斷裂，形成GeCl2及微量Cl2脫附。因此氯氣在鍺(100)表面熱分解的產(chǎn)物為GeCl4、GeCl2、Cl2。

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