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: 蝕刻技術(shù)中特種氣體的作用

硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬復(fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等蝕刻是采用化學(xué)和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程?？涛g的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形?？涛g分為濕法蝕
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: 廢鋁制氫技術(shù)了解一下！

俄羅斯莫斯科鋼鐵學(xué)院研發(fā)出鋁及有色金屬廢料化學(xué)制氫技術(shù)及實驗裝置，所制備的氫可用于車載供電系統(tǒng)及固定式小型電力裝置。科研團隊采用“鋁—水”系統(tǒng)以廢鋁作為反應(yīng)物研發(fā)出化學(xué)制氫的整套技術(shù)，包括，原材料的化驗分析、廢鋁粉處理方案、氧化過程工藝參數(shù)的選擇、所制備固體金屬反應(yīng)物儲存和運輸要求等。已研制出廢鋁制氫氧化劑，以及制氫實驗裝置。裝置適用于處理廢鋁及其他水解金屬以制備氫燃料，具有可靠的防爆性。由于金屬鋁表面易形成氧化保護膜，隔絕氧化劑與金屬鋁的接觸
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: 六氟化硫使用時的注意事項

六氟化硫在常溫常壓下為無色無臭無毒的氣體。不燃燒。對熱穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)不活潑。在500℃以上熾熱狀態(tài)下也不分解，在800℃以下很穩(wěn)定。在250℃與金屬鈉反應(yīng)。沒有腐蝕性，可以用通用材料，不腐蝕玻璃。電絕緣性能和消弧性能好，絕緣性能為空氣的2~3倍，而且氣體壓力越大，絕緣性能越增高。藥物學(xué)性質(zhì)不活潑，沒有毒。微溶于水，在酒精和醚中溶解的比在水中多一些。不溶于鹽酸和氨。水中的溶解度為：（分壓101.325kPa，25℃）。介電常數(shù)為：1002049（氣體，101.325kPa，25℃）。在21.1℃時S.P.為2308k
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: 標(biāo)準(zhǔn)氣體的常用領(lǐng)域

標(biāo)準(zhǔn)氣體引氣體工業(yè)名詞。標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)是濃度度均勻的，良好穩(wěn)定和量值準(zhǔn)確的測定標(biāo)準(zhǔn)，它們具有復(fù)現(xiàn)，保存和傳遞量值的基本作用，在物理，化學(xué)，生物與工程測量領(lǐng)域中用于校準(zhǔn)測量儀器和測量過程，評價測量方法的準(zhǔn)確度和檢測實驗室的檢測能力，確定材料或產(chǎn)品的特性量值，進行量值仲裁等。應(yīng)用領(lǐng)域 1. 常見的標(biāo)準(zhǔn)氣體按用途包括：氣體報警類標(biāo)準(zhǔn)氣體、電力能源類標(biāo)準(zhǔn)氣體、石油化工類標(biāo)準(zhǔn)氣體、環(huán)保監(jiān)測類標(biāo)準(zhǔn)氣體、醫(yī)療衛(wèi)生類標(biāo)準(zhǔn)氣體、儀器儀表類標(biāo)準(zhǔn)氣體等。 2.
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: 氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法

四氟化碳這種含氟有機化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）
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: 氬氣流量調(diào)節(jié)與焊接的關(guān)系

氬氣屬于惰性氣體，不易和其它金屬材料、氣體發(fā)生反應(yīng)。而且由于氣流有冷卻作用，焊縫熱影響區(qū)小，焊件變形小。是鎢極氬弧焊最理想的保護氣體。更多信息請點擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 氬氣主要是對熔池進行有效的保護，在焊接過程中防止空氣對熔池侵蝕而引起氧化，同時對焊縫區(qū)域進行有效隔離空氣，使焊縫區(qū)域得到保護，提高焊接性能。調(diào)節(jié)方法是根據(jù)被焊金屬材料及電流大小，焊接方法來決定的：電流越大，保護氣越大?；顫娫?font color='red'>材料，保
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: 是什么影響了六氟化硫擊穿電壓

六氟化硫擊穿電壓除了與壓力有關(guān)，還與電極表面的光潔度和潔凈度有關(guān)；電極表面越潔凈、越光潔，其擊穿電壓就越高。在同一壓力了，六氟化硫的擊穿電壓隨著觸頭開距的增大而增大，但不是一個線性的關(guān)系，而是有一點飽和的意思，而且壓力越飽和越嚴(yán)重；所以我們在實踐中不能單靠增大觸頭開距來加強絕緣。此外，六氟化硫的擊穿電壓還與電極的幾何形狀和觸頭面積有關(guān)；如果電極形狀使得電場越均勻，其擊穿電壓就越高，這里要注意和真空開關(guān)不同，電極材料對六氟化硫擊穿電極沒有比較明顯的影響。六氟
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: 電子特氣—三氟碘甲烷蝕刻技術(shù)

三氟碘甲烷作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經(jīng)濟效用高、滅火后不留痕跡等特點，是哈龍1301優(yōu)選替代品種，經(jīng)NFPA的標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證，可正式使用。在航空、航天等領(lǐng)域具有不可替代的作用。作為制冷劑，三氟碘甲烷不燃，具有油溶性和材料相容性很好的特點，被認(rèn)為是傳統(tǒng)氟利昂制冷劑組元的理想替代品之一。另外，三氟碘甲烷在含氟中間體、半導(dǎo)體蝕刻、發(fā)泡劑等其它領(lǐng)域也具有廣泛的應(yīng)用前景。三氟碘甲烷（CF3I）作為半導(dǎo)體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進制程，與同種刻蝕氣體CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（C
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: 氘氣的制備技術(shù)

隨著全球經(jīng)濟的快速發(fā)展，社會對能源的需求量日益增大，各國在經(jīng)濟發(fā)展中都面臨著能源枯竭問題。這使得氘氣研究成為了備受關(guān)注的焦點，氘氣被稱為“未來的天然燃料”。氘氣可應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能電池等電子工業(yè)的燒結(jié)或退火工藝中以及核子融合反應(yīng)，化學(xué)、生物化學(xué)等領(lǐng)域。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，氘氣應(yīng)用越來越廣泛，氘氣制備技術(shù)也有了研究的價值。氘氣是美國科學(xué)家哈羅德?克萊頓?尤里在一九三一年，在大量液體氫蒸發(fā)后利用光譜檢測方法發(fā)現(xiàn)的。氘氣的發(fā)現(xiàn)轟動了整個科學(xué)界，尤里也因此獲得了諾貝爾化學(xué)獎。氘氣最初主要應(yīng)用于軍事研究，如核能工業(yè)、核武器等，隨著時代發(fā)展，氘氣應(yīng)用逐步擴展到民用工業(yè)中，如光纖材料，特殊燈源等，研究氘氣制備技術(shù)也具有重要意義。
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: 電子氣體哪里用？

2018年是第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化準(zhǔn)備的關(guān)鍵期,到2025年，第三代半導(dǎo)體器件將在移動通信、高效電能管理中國產(chǎn)化率占50%；LED通用照明市場占有率達(dá)到80%，核心器件國產(chǎn)化率達(dá)到95%；第三代半導(dǎo)體器件在新能源汽車、消費類電子領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)規(guī)模應(yīng)用。第三代半導(dǎo)體是“重點新材料研發(fā)及應(yīng)用”重大項目的組成部分。目前，我國微電子、光電子等電子信息產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展，而微電子、光電子產(chǎn)業(yè)對氣體的質(zhì)量要求極高，這促使了國內(nèi)特種氣體公司意識到了自有技術(shù)的重要性。我們將這個領(lǐng)域所使用的的氣體叫電子氣
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