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四氟化碳氣體處理快閃記憶體的應(yīng)用你知道么
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。今天紐瑞德特氣小編月月為大家?guī)硎褂?font color='red'>四氟化碳電漿處理三氧化鉬之電荷捕捉層在快閃記憶體的應(yīng)用介紹。更多 +
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以高溫微波電漿火炬轉(zhuǎn)化四氟化碳與六氟化硫的研究
無論是六氟化硫還是四氟化碳，都是能引發(fā)溫室效應(yīng)的溫室氣體，在我們的生產(chǎn)生活當(dāng)中，這兩種群體也時常見到。如果能將這兩種氣體在使用完畢之后變轉(zhuǎn)化回收，不是直接散發(fā)到空氣中，將在極大程度上保護(hù)環(huán)境。利用高溫電漿火炬進(jìn)行對CF4與SF6兩種全氟溫室氣體轉(zhuǎn)化就是目前科學(xué)家研究的事情。更多 +
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