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六氟化硫氣體抽樣檢測有哪些
六氟化硫氣體的質(zhì)量應(yīng)按照國家標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定進(jìn)行驗(yàn)證。測試項(xiàng)目包括空氣（N2、O2）、四氟化碳（CF4）、六氟化硫（SF6）、SF6微水測試（H2O）、酸度（HF）、可水解氟化物（HF），礦物油和毒性生物測試。試驗(yàn)結(jié)果應(yīng)符合GB/T12222的規(guī)定。 （1） 當(dāng)六氟化硫氣體中的濕度相對較高時，當(dāng)設(shè)備中發(fā)生電弧時，氣體的電弧分解產(chǎn)物會產(chǎn)生許多有毒物質(zhì)，如SOF2、HF等。，這會腐蝕斷路器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)材料并威脅維護(hù)人員的人身安全。此外，當(dāng)濕度高時。隨著溫度的變化，絕緣部件表面會產(chǎn)生冷凝，導(dǎo)致表面翻轉(zhuǎn)。它降低了絕緣更多 +
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四氟化碳僅僅只是一種超低溫冷媒嗎？
CF4，中文名稱四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane，分子式CF4。也被稱為R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等。 四氟化碳氣體理化特性 在常溫下，四氟甲烷是無色、無臭、不燃，不溶于水的可壓縮性氣體。沸點(diǎn)：-128℃，熔點(diǎn)：-183.6℃。液體密度（-130℃）1.613g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74Mpa，蒸氣壓（-150.7更多 +
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四氟化碳的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 &nb更多 +
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中國工程物理研究院
中國工程物理研究院（China Academy Of Engineering Physics），簡稱“中物院”，是國家科研計(jì)劃單列的中國唯一的核武器研制生產(chǎn)單位，是以發(fā)展國防尖端科學(xué)技術(shù)為主的集理論、實(shí)驗(yàn)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)為一體的綜合性研究院。中物院的研究領(lǐng)域包括物理學(xué)、力學(xué)與數(shù)學(xué)、化學(xué)與材料、信息科學(xué)與電子工程等方面。 中物院在物理學(xué)、力學(xué)與數(shù)學(xué)、化學(xué)與材料、信息科學(xué)與電子工程等項(xiàng)目研究上需要用到6N超純氣、特種氣體（六氟化硫、四氟化碳、三氯化硼、三氟甲烷、硅烷）、更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長亦十分可觀。 常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。 三氟更多 +
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標(biāo)準(zhǔn)氣體生產(chǎn)廠家|紐瑞德特種氣體|湖北氣體生產(chǎn)廠家
在我們生活中存在著很多的氣體，有些氣體對我們的幫助是十分大的，而標(biāo)準(zhǔn)氣體就是這些氣體的統(tǒng)稱，標(biāo)準(zhǔn)氣體可以幫助我們進(jìn)行很多的工作,電子、太陽能、半導(dǎo)體、電力、科研、照明、制藥、石油化工、建材和食品等行業(yè)都有著廣泛應(yīng)用。 紐瑞德由從事氣體行業(yè)23年的資深技術(shù)人員創(chuàng)建，引進(jìn)美國先進(jìn)的氣體生產(chǎn)技術(shù)、分析的設(shè)備和質(zhì)量管理理念。主要經(jīng)營：稀有氣體（氪、氙、氖、氦）、同位素產(chǎn)品、標(biāo)準(zhǔn)混合氣體、電子氣體（六氟化硫、四氟化碳、三氟化氮等）、高純/超純氣體（氬、氮、氧、氫等）。 公司生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品質(zhì)更多 +
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四氟化碳組分氣體的氣相色譜試驗(yàn)方法
四氟化碳用途廣泛，目前是微電子行業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。它作為溫室氣體中的一個中類，可以通過多種途徑進(jìn)入水體、土壤、大氣中，對環(huán)境造成污染。目前的研究已充分證實(shí)了臭氧層的損耗與四氟化碳氣體在大氣中釋放的自由基有關(guān)。因此，為了準(zhǔn)確的評估四氟化碳的排放量，提供四氟化碳組分氣體的分析方法及準(zhǔn)確定值的方法，評價該類氣體物質(zhì)對自然環(huán)境以及經(jīng)濟(jì)發(fā)展的影響是當(dāng)前急需解決的問題！ 國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研究中心對該組份氣體的制備方法、分析方法以及定值方法進(jìn)行了研究。通過研究確立氣體標(biāo)注物質(zhì)量值的復(fù)現(xiàn)程序及更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險(xiǎn)。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結(jié)納米級溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊(duì)提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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