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武漢高芯科技有限公司與我司達(dá)成合作
武漢高芯科技有限公司, 是武漢高德紅外股份有限公司的全資子公司，是國內(nèi)規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)、產(chǎn)品線最完整的紅外熱成像芯片技術(shù)與解決方案提供商。公司成立于2013年4月，擁有全球領(lǐng)先的、完全自主可控的制冷式、非制冷式探測器生產(chǎn)線及系統(tǒng)研發(fā)能力，是國家認(rèn)定的集成電路生產(chǎn)企業(yè)。公司產(chǎn)品及解決方案可廣泛應(yīng)用于國防安全、測溫檢測、安全監(jiān)控、個人視覺、智能交通、智能家居，等多個領(lǐng)域。 在行業(yè)內(nèi)已持有多項(xiàng)專利證書，與此同時“紅外熱成像”技術(shù)也取得一定的成績，目前正在研發(fā)制冷紅更多 +
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國網(wǎng)甘肅省電力公司檢修公司
國網(wǎng)甘肅省電力公司檢修公司,位于蘭州市七里河區(qū)建蘭路358號,主要提供220千伏及以上電網(wǎng)工程的建設(shè)及管理業(yè)務(wù),220千伏及以上電網(wǎng)生產(chǎn)運(yùn)行,維護(hù),檢修,試驗(yàn)與技術(shù)改造等業(yè)務(wù),與電網(wǎng)建設(shè),運(yùn)行與檢修。 現(xiàn)階段變電檢修公司較多檢修工作為六氟化硫斷路器補(bǔ)氣檢修工作。六氟化硫具有卓越的電絕緣性和滅弧特性，相同條件下，其絕緣能力為空氣、氮?dú)獾?.5倍以上，滅弧能力為空氣的100倍。六氟化硫的熔點(diǎn)為－50.8℃，可作為－45－0℃溫度范圍內(nèi)的特殊制冷劑，又因其耐熱性好，是一種穩(wěn)定的高溫?zé)彷d體更多 +
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氦-3在低溫制冷領(lǐng)域的使用
He-3的一同性質(zhì)引起低溫物理和低溫工程領(lǐng)域研究者的極大喜歡，其間最令人注目的是He-3在獲取1K以下低溫環(huán)境所扮演的絕無僅有的人物，而這個溫度區(qū)間正是基礎(chǔ)物理學(xué)等現(xiàn)代高新科學(xué)研究的重要領(lǐng)域。He-3具有低沸點(diǎn)、低密度、高比熱容、高熱導(dǎo)率等性質(zhì)，這些性質(zhì)使它成為低溫工程中極為特別的一種制冷工質(zhì)，尤其是在接近絕對零度的極低溫下。 1956年，瓦爾特斯（G. K. Walters）和費(fèi)爾班克斯（W. M. Fairbanks）發(fā)現(xiàn)，溫度在0.87K以下時，3He和4He混合液分紅兩個徹底不同的相，較輕更多 +
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環(huán)氧乙烷的存儲要注意什么？|紐瑞德氣體
環(huán)氧乙烷是有機(jī)化合物，化學(xué)式是C2H4O，是一種有毒的致癌物質(zhì)，被用來制造殺菌劑。環(huán)氧乙烷易燃易爆，不易長途運(yùn)輸，因此有激烈的地域性。 環(huán)氧乙烷的存儲要注意什么？ 環(huán)氧乙烷選用球罐貯存，球罐加制冷,貯存溫度<10度。由于環(huán)乙閃點(diǎn)很低且會發(fā)生自爆，冷凍貯存比較安全。 1、臥罐（壓力容器），Vg=100m3 ，內(nèi)置冷卻器（夾套或內(nèi)盤管式，加冷凍水），氮封。外加聚氨酯塊保溫 2、規(guī)劃壓力取供氮系統(tǒng)的最高壓力值（EO貯存加氮封不會對其純度造成影響，同時還能有用下降其發(fā)生爆炸的危險性）。 3、內(nèi)置冷卻器更多 +
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六氟化硫氣體每公斤多少錢？|來紐瑞德獲取最新價格
六氟化硫氣體具有良好的電氣絕緣性能及優(yōu)異的滅弧性能。其耐電強(qiáng)度為同一壓力下氮?dú)獾?.5倍，擊穿電壓是空氣的2.5倍，滅弧能力是空氣的100倍，是一種優(yōu)于空氣和油之間的新一代超高壓絕緣介質(zhì)材料。 六氟化硫以其良好的絕緣性能和滅弧性能，如：斷路器、高壓變壓器、氣封閉組合電容器、高壓傳輸線、互感器等。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，被大量應(yīng)用于微電子技術(shù)領(lǐng)域。冷凍工業(yè)作為制冷劑，制冷范圍可在-45℃～0℃之間。 電氣工業(yè)利用其很高介電強(qiáng)度和良好的滅電弧性能，用作高更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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天然氣提氦技術(shù)簡介
我國天然氣提氦始于２０世紀(jì)６０年代的提氦試驗(yàn)Ｉ裝置，該裝置設(shè)計規(guī)模為５萬ｍ３／ｄ，年生產(chǎn)氦２萬ｍ３。其特點(diǎn)是采用“氨預(yù)冷的高中壓林德循環(huán)制冷＋兩段單塔精餾塔分離提氦工藝”，精餾塔分為常壓液甲烷冷凝段和減壓液甲烷冷凝段，低溫?fù)Q熱器為繞管式換熱器，現(xiàn)場儀表控制，提氦后的天然氣增壓后去管網(wǎng)。１９８９年，建成提氦Ⅱ試驗(yàn)裝置，該裝置設(shè)計規(guī)模為１０萬ｍ３／ｄ，年生產(chǎn)氦４萬ｍ３。在提氦Ｉ裝置的基礎(chǔ)上，引入“膨脹機(jī)＋高壓氮循環(huán)＋甲烷循環(huán)制冷”，采用兩塔分離工藝取代單塔分離工藝，主換熱更多 +
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氦透平膨脹機(jī)你了解么？
隨著超導(dǎo)技術(shù)、太空探索以及大型低溫項(xiàng)目的發(fā)展的需要，氦制冷/液化系統(tǒng)發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，而高效穩(wěn)定的氦透平膨脹機(jī)是氦制冷/液化系統(tǒng)的關(guān)鍵設(shè)備。因此，開展具有高性能的氦透平膨脹機(jī)的研究，對國內(nèi)在超導(dǎo)、加速器、空間環(huán)境模擬等重大國防科研項(xiàng)目的研究具有非常重要的意義。 氦氣膨脹機(jī)具有微型化、高轉(zhuǎn)速、低振動、長壽命等特點(diǎn)，在制冷溫度和制冷量上都有著不可替代的優(yōu)勢。氦氣膨脹機(jī)的主要特點(diǎn)：進(jìn)口介質(zhì)溫度低，膨脹比大，尤其在小流量時，工作葉輪直徑小，膨脹比焓降大，轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速高，轉(zhuǎn)子穩(wěn)定性和動平衡要求嚴(yán)格。 &n更多 +
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液氮在食品速凍中的廣泛應(yīng)用
液氮是無色、無味、低粘度的透明液體，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定。液氮在常壓下的沸點(diǎn)是-195.8℃，當(dāng)它與被凍食品相接觸時，能吸收的蒸發(fā)潛熱為198.9kJ/kg；再讓氮蒸氣升溫至-20℃，平均比熱以1.047kJ/（kg·K）計，則能吸收184.1kJ/kg。兩項(xiàng)合計為383.0kJ/kg，是一種理想的制冷劑.用液氮速凍食品，最早始于美國。美國在50年代就開始了這方面的研究，至1960年即正式用于速凍食品。1964年開始在生產(chǎn)上迅速推廣。 近幾年，隨著改革開放的深入，國外主要跨國氣體公司競相在我更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控更多 +
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