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光刻機(jī)中你不知道的化學(xué)知識
許多化學(xué)和化學(xué)工程專業(yè)的學(xué)生經(jīng)常覺得自己選錯(cuò)了專業(yè)。事實(shí)上，化學(xué)和化學(xué)工程的知識非常廣泛。請不要沮喪。讓我們談?wù)?font color='red'>光刻術(shù)對化學(xué)原理的依賴性。光刻技術(shù)利用光子能量在晶圓表面“雕刻”光刻膠，將掩模圖像傳輸?shù)骄A表面。顧名思義，光的使用是光刻技術(shù)的核心，因此可能存在誤解。光刻是一種物理上占主導(dǎo)地位的工藝，但化學(xué)原理在光刻工藝中起著至關(guān)重要的作用。 1. 光化學(xué)反應(yīng) 光化學(xué)反應(yīng)是光刻工藝的基本原理。所謂光化學(xué)反應(yīng)是利用光子能量作為活化劑產(chǎn)生自由基，然后通過一系列更多 +
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半導(dǎo)體、氖氣Ne所需面臨的新的問題
芯片制造商面臨許多新的挑戰(zhàn)。繼2019冠狀病毒疾病導(dǎo)致的供應(yīng)鏈問題之后，該行業(yè)正面臨新的風(fēng)險(xiǎn)。俄羅斯已開始限制向其認(rèn)為敵對的國家出口。這些是所謂的“稀有”氣體，如氖、氬和氦。 氖在半導(dǎo)體生產(chǎn)中起著重要作用，因?yàn)樗婕耙环N稱為光刻的工藝。這種氣體控制激光在硅上雕刻“痕跡”所產(chǎn)生的光的波長。戰(zhàn)前，俄羅斯在其鋼鐵廠收集了Rohneon作為副產(chǎn)品，然后將其運(yùn)往烏克蘭進(jìn)行凈化。在蘇聯(lián)時(shí)代，兩國都是稀有氣體的重要生產(chǎn)國。蘇聯(lián)使用稀有氣體建造軍事和空間技術(shù)。然而，更多 +
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高純氮?dú)獾慕榻B
氮?dú)? 1.別名·英文名 Nitrogen 2.用途 化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保護(hù)介質(zhì)，速凍食品、低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻等，還用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣等。 3.制法 ①空氣分離法 ②氨或亞硝酸銨的分解法：NH4NO2→N2+2H2O ③在銅屑上通過氧化氮 4.理化性質(zhì) 分子量： 28.0134 熔點(diǎn)(三相點(diǎn)，12.53kPa)： -210.0℃ 沸點(diǎn)(101更多 +
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高純氣體在半導(dǎo)體、光纖等行業(yè)的應(yīng)用？
高純氣體工藝系統(tǒng)目前主要用于泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)（集成電路、平板顯示、光伏、LED等等）和光纖、生物制藥及食品飲料行業(yè)。 高純氣體工藝系統(tǒng)的好壞會(huì)直接影響先進(jìn)制造行業(yè)中工藝設(shè)備的運(yùn)行及投產(chǎn)后的成品率。一個(gè)優(yōu)秀的高純氣體工藝系統(tǒng)設(shè) 企業(yè)如沃飛，能通過控制高純氣體的純度，實(shí)現(xiàn)其制程精度要求，保障并提升產(chǎn)品良率。 1、在泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中高純氣體工藝系統(tǒng)的運(yùn)用 高純度的特種氣體參與泛半導(dǎo)體行業(yè)集成電路制造的核心工藝流程：摻雜、光刻、刻蝕和CVD成膜工藝環(huán)節(jié)。更多 +
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單組分氣體應(yīng)用
N2；化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保護(hù)介質(zhì)，速凍食品，低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相沉積，離子注入，等離子干刻、光刻等，還用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣。 充入燈泡能防止鎢絲的氧化和減慢鎢絲的揮發(fā)速度，延長燈泡的使用壽命，代替惰性氣體作焊接時(shí)的保護(hù)氣。 真空充氮儲糧和水果，博物館里書籍的保存。 液氮給手術(shù)刀降溫，“冷刀”手術(shù)減少出血或不出血，術(shù)后恢復(fù)快。 低溫存儲等。 Xe；用于閃光燈，深度麻醉劑，激光器，焊接，難熔金屬切更多 +
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一周翻了5倍的稀有氣體——氖氣
氖氣（Ne），制造芯片的關(guān)鍵性材料，怎么個(gè)關(guān)鍵？ 沒有光刻機(jī)，做不出芯片。 沒有光刻氣，光刻機(jī)就是個(gè)模型。 氖氣，占光刻氣這種激光氣體混合物的96%以上。 氖氬氟等稀有氣體經(jīng)高壓受激發(fā)后形成等離子體，在這個(gè)過程中，由于電子躍遷，會(huì)產(chǎn)生固定波長的光線，形成了剔除光刻膠的刀片。 除此之外，還有兩個(gè)好兄弟，氪氣（同樣用于光刻制程），氙氣（用于半導(dǎo)體刻蝕制程）。 一周內(nèi)，氪氣漲幅約30%，目前主流價(jià)格在38000-42000元/方。氙氣漲幅約40%，主流價(jià)格在42萬—45萬/方。更多 +
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沖突之下，光刻機(jī)巨頭尋求烏克蘭氖氣替代，國產(chǎn)氖氣有望進(jìn)場補(bǔ)位
俄烏對峙狀況越來越激烈，這兩個(gè)國家都是全球氖氣主要生產(chǎn)國，特別是烏克蘭，供應(yīng)了全球70％的氖氣，這種稀有氣體對半導(dǎo)體光刻環(huán)節(jié)至關(guān)重要，難以取代。 所以俄烏沖突一爆發(fā)，光刻機(jī)巨頭阿斯麥便緊張兮兮，畢竟他家20％的氖氣供應(yīng)來自烏克蘭，要是供應(yīng)中斷，風(fēng)險(xiǎn)太大了，所以阿斯麥正在四處尋找其他氖氣供應(yīng)來源。 雖說，高純氖氣量產(chǎn)提純的技術(shù)門檻很高，能達(dá)標(biāo)的企業(yè)屈指可數(shù)，但由于中國是全球鋼鐵大國，氖氣是鋼鐵行業(yè)的副產(chǎn)品，我國對于這些稀有氣體的純化技術(shù)早已實(shí)現(xiàn)突破，生產(chǎn)工藝成熟，不是一項(xiàng)&ldqu更多 +
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存儲芯片需求增長，2025年電子級稀有氣體用量或增加至850ML
在信息時(shí)代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對于芯片算力提出越來越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時(shí)更低的存儲介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲器高深寬比刻蝕工藝，從而實(shí)現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預(yù)計(jì)2025年全球電子級稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長29%。 激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機(jī)突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體更多 +
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常見的5種電子混合氣體|紐瑞德特氣
氣體在半導(dǎo)體工業(yè)和微電子工業(yè)中扮演著不可或缺的角色，其中除了大家熟知的一些大宗氣體以外，還有一個(gè)重要的分支:電子混合氣體。電子混合氣體廣泛用于大規(guī)模集成電路（L.S.I）超大規(guī)模集成電路（V.L.S.I）和半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中，主要用于氣相外延（生成）、化學(xué)氣相淀積、摻雜（雜質(zhì)擴(kuò)散）、各類蝕刻和離子注入等工藝中。 根據(jù)不同用途又可以將電子混合氣體分為：晶體生長氣、熱氧化氣、外延氣、摻雜氣、擴(kuò)散氣、化學(xué)氣相淀積氣、噴射氣、離子注入氣、等離子蝕刻氣、載氣/吹洗氣、光刻氣、退火氣、焊更多 +
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電子特氣最全種類大全|紐瑞德電子特氣
電子特種氣體是特種氣體的一個(gè)重要分支，是集成電路（IC）、顯示面板（LCD、OLED）、光伏能源、光纖光纜等電子工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的關(guān)鍵性原材料，廣泛應(yīng)用于薄膜、光刻、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝，其質(zhì)量對電子元器件的性能有重要影響。 氣體的產(chǎn)品種類豐富，電子元器件在其生產(chǎn)過程中對氣體產(chǎn)品存在多樣化需求。就集成電路制造過程中需要的高純特種氣體和混合氣體的種類超過 50 種，且每一種工藝步驟中都會(huì)用到特定的氣體。此外，在顯示面板、LED、太陽能電池片等器件的制造中的不同工藝環(huán)節(jié)均更多 +
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