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距離地球4000光年行星狀星云中存在大量氦-3
紐瑞德小編了解到，英國曼徹斯特大學(xué)天文學(xué)家最新探測到距離地球4000光年之遙的行星狀星云中存在著一種稀有氣體。這項(xiàng)發(fā)現(xiàn)是通過美國宇航局馬德里深太空通訊綜合體觀測到的，將有助于科學(xué)家理解這種重要成分的歷史。 這種稀有氣體是氦-3，它可作為核電站的一種燃料，在低溫物理學(xué)和醫(yī)學(xué)成像技術(shù)領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。該氣體很少存在于地球，但是科學(xué)家認(rèn)為它們大量存在于月球，部分國家和政府計劃在月球上采集氦-3，或許未來將引發(fā)一場太空競賽。 氦-3氣體形成于低質(zhì)量恒星(質(zhì)量低于太陽質(zhì)量兩倍)，這樣的恒星在生命末期噴射大更多 +
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氣體為什么要進(jìn)行脫硫處理？
質(zhì)料氣中的硫以硫化氫（H2S）為主，此外還有二硫化碳（CS2）、硫氧化碳（COS）、硫醇（C2S5SH）等，這些含硫化合物對出產(chǎn)有何損害？ 紐瑞德來告訴你，硫化物的首要損害有以下幾點(diǎn)： （1）毒害催化劑，使催化劑中毒、失活 化工出產(chǎn)中常用的烴類轉(zhuǎn)化催化劑，高溫改換和低溫改換催化劑、甲烷化催化劑等各類構(gòu)成催化劑中的活性組分都能與硫化氫反響生成金屬硫化物，然后使催化劑的活性下降、強(qiáng)度下降，嚴(yán)峻地影響催化劑的有用運(yùn)用壽數(shù)。 硫化氫能使甲醇催化劑永久性更多 +
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液氫、液氧、液氮火箭發(fā)射的“加油站”
西昌的衛(wèi)星發(fā)射場技術(shù)勤務(wù)站氮氧站，一個常年給航天發(fā)射供給燃料的地方。西昌和航天難解難分，這里地理位置最優(yōu)，從1984年“首發(fā)”至今，已經(jīng)進(jìn)行111次航天發(fā)射，成功將120多顆航天器送上天。作為我國唯一能夠發(fā)射中高軌道航天器的發(fā)射中心，這里最早使用低溫燃料液氫液氧。而西昌衛(wèi)星發(fā)射中心所有低溫燃料的生產(chǎn)、化驗(yàn)、運(yùn)輸、加注、轉(zhuǎn)注，都由這個氮氧站負(fù)責(zé)。 在這里，液氫、液氧和液氮?dú)怏w有什么作用呢？ 大家都知道，氮是惰性氣體，不支持燃燒。液氮的主要作用是預(yù)冷管路、置換更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控更多 +
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液氮在電子工業(yè)中的應(yīng)用
液氮是低溫-196℃的液體，是由占用空氣成分百分之七十多的氮?dú)獾脕淼?。惰性、無色、無毒，易揮發(fā)，使用范圍非常廣。液氮低溫易揮發(fā)，所以一般儲存在專用容器—液氮罐中。 1、電子元件制造與檢測 液氮是一種更快和更有效的屏蔽和測試電子元器、電路板的方法。 2、低溫球磨技術(shù) 低溫行星式球磨機(jī)是將液氮?dú)怏w源源不斷地輸入裝有保溫罩的行星式球磨機(jī)中，這些冷氣將高速旋轉(zhuǎn)的球磨罐產(chǎn)生的熱量及時更多 +
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液氬到底能從存放多久？多長時間會揮發(fā)完？
液氬儲罐為雙層固定真空粉末絕熱儲罐（貯槽）。內(nèi)膽材質(zhì)采用不銹鋼（其中二氧化碳儲罐為16MnDR），外膽材質(zhì)為Q235B或者16MnR。表面防腐涂層采用噴砂除銹、吹掃、噴涂等工藝，同時采用了雙組分快速固化液體涂料。該系列產(chǎn)品主要用于液氧、液氮、液氬以及二氧化碳等氣體的低溫液態(tài)存儲。1立方米液體可以代替130支氣體鋼瓶。它可以取代每天用氣瓶往返運(yùn)輸，節(jié)約大量的人力物力資源。該系列產(chǎn)品具有使用壽命長、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積少、集中控制、操作方便等特點(diǎn)。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在氣體行業(yè)、醫(yī)院、金屬冶煉等用氣量較大的用戶，是更多 +
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氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法
四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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如何去除四氟化碳？降低溫室效應(yīng)
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結(jié)構(gòu)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳?xì)怏w非常重要。 不同添加氣體對微波電漿更多 +
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液態(tài)氮是惰性的無色無嗅無腐蝕性不可燃
冷凍治療是利用低溫作用于組織，使之發(fā)生壞死，以達(dá)到治療目的的一種方法，是一個生物化學(xué)過程。更多信息請點(diǎn)擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 肌體組織受到0℃以下低溫利用時，組織中的水分凍結(jié)形成冰晶。作用的溫度不很低時，組織降溫緩慢，冰晶主要在細(xì)胞外形成;作用的溫度很低時，組織急驟降溫，則冰晶主要形成于細(xì)胞內(nèi)。細(xì)胞內(nèi)的冰晶致死性損傷作用更大，故致冷劑的溫度越低，對細(xì)胞的損傷作用也越大。冰晶可引起細(xì)胞的機(jī)械性損傷;組織中的水分結(jié)冰，細(xì)胞脫水，電解質(zhì)濃縮使更多 +
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