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三氟化氮和六氟化硫等7種氣體被列為需要控制的溫室氣體
自今日起《碳排放權(quán)交易管理辦法(試行)》正式開(kāi)始施行。根據(jù)“辦法”第一條:在應(yīng)對(duì)氣候變化和促進(jìn)綠色低碳發(fā)展中充分發(fā)揮市場(chǎng)機(jī)制作用,推動(dòng)溫室氣體減排,規(guī)范全國(guó)碳排放權(quán)交易及相關(guān)活動(dòng),根據(jù)國(guó)家有關(guān)溫室氣體排放控制的要求,制定本辦法。 對(duì)于控制排放的溫室氣體,“辦法”中第四十二條明確規(guī)定的溫室氣體包括二氧化碳(CO2)、甲烷(CH4)、氧化亞氮(N2O)、氫氟碳化物(HFCs)、全氟化碳(PFCs)、六氟化硫(SF6)和三氟化氮(NF3),總共更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來(lái),《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持,我國(guó)超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時(shí),含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長(zhǎng)亦十分可觀。 常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。 三氟更多 +
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三氟化氮等電子特種氣體國(guó)標(biāo)修訂
近日,國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)經(jīng)研究決定下達(dá)2020年推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃(修訂)的通知。本批計(jì)劃共471項(xiàng),其中涉及氣瓶和電子特氣修訂標(biāo)準(zhǔn)共計(jì)5項(xiàng),全部為推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)修訂計(jì)劃項(xiàng)目。 2020 年推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃項(xiàng)目(修訂)包括氣瓶水壓試驗(yàn)方法、氣瓶水壓爆破試驗(yàn)方法、焊接絕熱氣瓶、電子特氣三氯化硼和三氟化氮等標(biāo)準(zhǔn)。其中三氯化硼替代標(biāo)準(zhǔn)號(hào)GB/T 17874-2010,歸口單位是全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)。由大連科利德化工科技開(kāi)發(fā)有限公司、西南化工研究設(shè)計(jì)院有限公司等起草。三氟化氮替代標(biāo)準(zhǔn)號(hào)更多 +
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標(biāo)準(zhǔn)氣體生產(chǎn)廠家|紐瑞德特種氣體|湖北氣體生產(chǎn)廠家
在我們生活中存在著很多的氣體,有些氣體對(duì)我們的幫助是十分大的,而標(biāo)準(zhǔn)氣體就是這些氣體的統(tǒng)稱(chēng),標(biāo)準(zhǔn)氣體可以幫助我們進(jìn)行很多的工作,電子、太陽(yáng)能、半導(dǎo)體、電力、科研、照明、制藥、石油化工、建材和食品等行業(yè)都有著廣泛應(yīng)用。 紐瑞德由從事氣體行業(yè)23年的資深技術(shù)人員創(chuàng)建,引進(jìn)美國(guó)先進(jìn)的氣體生產(chǎn)技術(shù)、分析的設(shè)備和質(zhì)量管理理念。主要經(jīng)營(yíng):稀有氣體(氪、氙、氖、氦)、同位素產(chǎn)品、標(biāo)準(zhǔn)混合氣體、電子氣體(六氟化硫、四氟化碳、三氟化氮等)、高純/超純氣體(氬、氮、氧、氫等)。 公司生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品質(zhì)更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝,蝕刻所用氣體稱(chēng)蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體,電子級(jí)C4F6成為集成電路IC芯片等制造時(shí)必不可少的刻蝕氣體,其GWP值簡(jiǎn)直為0,而且能完結(jié)納米級(jí)溝槽的加工,成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”,比γ刀還γ! 2015年,浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊(duì)提出自主開(kāi)發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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中國(guó)增加部分工業(yè)氣體進(jìn)口關(guān)稅,氦氣市場(chǎng)價(jià)格影響最大
2018年7月11日美國(guó)政府發(fā)布了對(duì)從中國(guó)進(jìn)口的約2000億美元商品加征10%關(guān)稅的措施。8月2日美國(guó)貿(mào)易代表聲明稱(chēng)擬將加征稅率由10%提高至25%。商務(wù)部8月3日晚間一連發(fā)了三個(gè)公告,針對(duì)美方加征關(guān)稅的行為作出回應(yīng),決定對(duì)原產(chǎn)于美國(guó)的5207個(gè)稅目約600億美元商品,加征25%-5%不等的關(guān)稅。其中部分工業(yè)氣體產(chǎn)品及相關(guān)設(shè)備儀器等在增加征稅范圍內(nèi),國(guó)內(nèi)工業(yè)氣體市場(chǎng)關(guān)注密切。 本次國(guó)務(wù)院公布增加關(guān)稅中,工業(yè)氣體主要涉及氧、氮、氬、氫、二氧化碳、氟化氫、三氟化氮及其他稀有氣體。其中二氧化碳、氬及氟化更多 +
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蝕刻技術(shù)中特種氣體的作用
硅片的蝕刻氣體(特種氣體)主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進(jìn)后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬?gòu)?fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等 蝕刻是采用化學(xué)和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程。刻蝕的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形??涛g分為濕法蝕更多 +
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影響標(biāo)準(zhǔn)氣體穩(wěn)定度的四大因素
一、氣體組分的相容性。如果配制氮?dú)庵幸谎趸?氮?dú)獾臉?biāo)準(zhǔn)氣體, 如果高純氮中含有氧或充裝中帶入氧, 那么混合氣體就變成了二氧化氮/氮?dú)饬?、?lèi)似情況的問(wèn)題整理為以下幾點(diǎn): 1、 可燃性氣體或自燃?xì)怏w與氧化性氣體: 如果在爆炸下限以上或最小需氧量以上將可燃性氣體和氧化性氣體充入同一個(gè)氣瓶中, 會(huì)有爆炸的危險(xiǎn)。碳?xì)浠衔锖蜌錃庾鳛榭扇細(xì)怏w容易被人們重視,而一氧化碳的可燃性卻常常被人們忽視, 而只是關(guān)注了它的毒性。氧氣是助燃?xì)怏w, 而一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、 F2、 氯氣、三氟化氮更多 +
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氣相色譜法測(cè)定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法
四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年,也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時(shí)在低溫下可作為低溫流體用,也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用,其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測(cè)四氟化碳中的氧(O2)、氮(N2)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、六氟化硫(SF6)、水(H2O)更多 +
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三氟化氮價(jià)格是否會(huì)降低?
三氟化氮在常溫下是一種無(wú)色、無(wú)臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體,是一種強(qiáng)氧化劑,三氟化氮主要用于氟化劑、燃燒劑、推進(jìn)劑中的氧化劑、高溫金屬的切割油等,在半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用廣泛。然而早些年,相關(guān)產(chǎn)品被國(guó)外壟斷,市場(chǎng)定價(jià)權(quán)掌握在國(guó)外廠商手中。 為破解壟斷危機(jī)、搶抓市場(chǎng)機(jī)遇,我國(guó)于2009年成功開(kāi)發(fā)出高純三氟化氮。該產(chǎn)品被列入國(guó)家“重點(diǎn)新產(chǎn)品”及“火炬計(jì)劃”,應(yīng)用于國(guó)內(nèi)大部分的半導(dǎo)體、液晶、太陽(yáng)能行業(yè),并出口美國(guó)、日本、法國(guó)、德國(guó)等國(guó)家。 目前更多 +
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