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六氟化硫：新一代光刻膠刻蝕劑
六氟化硫是一種高效的光刻膠刻蝕劑，廣泛用于微電子、光電子等領(lǐng)域。其在大氣壓下具有較強(qiáng)的化學(xué)惰性和氧化力，通過(guò)與光刻膠中的聚合物鏈發(fā)生氟化反應(yīng)實(shí)現(xiàn)蝕刻。在使用六氟化硫時(shí)，需注意操作安全，避免與水蒸氣接觸，以確保生產(chǎn)過(guò)程安全和高效。更多 +
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